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      第三代半導(dǎo)體優(yōu)勢明顯 重點領(lǐng)域市場需求量大

      2017-04-02 10:28:38來源:賽迪顧問 編輯:一不做 關(guān)鍵詞:半導(dǎo)體集成電路芯片閱讀量:31567

      導(dǎo)讀:在許多應(yīng)用領(lǐng)域擁有前兩代半導(dǎo)體材料無法比擬的優(yōu)點,有望突破、二代半導(dǎo)體材料應(yīng)用技術(shù)的發(fā)展瓶頸,市場應(yīng)用潛力巨大。
        【中國智能制造網(wǎng) 智造快訊】以碳化硅和氮化鎵為代表的第三代半導(dǎo)體材料憑借其寬禁帶、高熱導(dǎo)率、高擊穿電場、高抗輻射能力等特點,在許多應(yīng)用領(lǐng)域擁有前兩代半導(dǎo)體材料無法比擬的優(yōu)點,有望突破、二代半導(dǎo)體材料應(yīng)用技術(shù)的發(fā)展瓶頸,市場應(yīng)用潛力巨大。


      第三代半導(dǎo)體優(yōu)勢明顯 重點領(lǐng)域市場需求量大
       

        (一)一二代半導(dǎo)體各有瓶頸,難以滿足新興市場需求
       
        代半導(dǎo)體以硅(Si)、鍺(Ge)為代表,主要應(yīng)用在數(shù)據(jù)運算領(lǐng)域,硅基芯片在人類社會的每一個角落無不閃爍著它的光輝,隨著科技需求的日益增加,硅傳輸速度慢、功能單一的不足暴露了出來,同時集成電路產(chǎn)業(yè)遵循的“摩爾定律”演進趨緩,以新材料、新結(jié)構(gòu)以及新工藝為特征的“超越摩爾定律”成為產(chǎn)業(yè)新的發(fā)展方向。第二代半導(dǎo)體以砷化鎵(GaAs)、磷化銦(InP)為代表,是制作高性能微波、毫米波器件及發(fā)光器件的優(yōu)良材料,主要應(yīng)用于通信領(lǐng)域。從21世紀(jì)開始,智能手機、新能源汽車、機器人等新興的電子科技發(fā)展迅速,同時能源和環(huán)境危機突出,能源利用趨向低功耗和精細管理,傳統(tǒng)的、二代半導(dǎo)體材料由于自身的性能限制已經(jīng)無法滿足科技的需求,這就呼喚需要出現(xiàn)新的材料來進行替代。
       
        (二)第三代半導(dǎo)體優(yōu)勢明顯,重點領(lǐng)域市場需求量大
       
        以碳化硅和氮化鎵為代表的第三代半導(dǎo)體材料憑借其寬禁帶、高熱導(dǎo)率、高擊穿電場、高抗輻射能力等特點,在許多應(yīng)用領(lǐng)域擁有前兩代半導(dǎo)體材料無法比擬的優(yōu)點,有望突破、二代半導(dǎo)體材料應(yīng)用技術(shù)的發(fā)展瓶頸,市場應(yīng)用潛力巨大。根據(jù)第三代半導(dǎo)體不同的發(fā)展情況,其主要應(yīng)用為半導(dǎo)體照明、電力電子器件、激光器和探測器以及其他4個領(lǐng)域,每個領(lǐng)域產(chǎn)業(yè)成熟度各不相同,其中前沿研究領(lǐng)域,寬禁帶半導(dǎo)體還處于實驗室研發(fā)階段。預(yù)計到2020年,第三代半導(dǎo)體技術(shù)應(yīng)用將在節(jié)能減排、信息技術(shù)、國防三大領(lǐng)域催生上萬億元潛在市場,而碳化硅和氮化鎵器件很可能成為推動整個電力電子、光電子和微波射頻三大領(lǐng)域效率提升和技術(shù)升級的關(guān)鍵動力之一。
       
        (三)發(fā)達國家展開全面部署,美日歐欲搶戰(zhàn)略制高點
       
        上第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)已經(jīng)整體進入產(chǎn)業(yè)形成期,并開始步入激烈競爭的階段,眾多國家將其列入國家戰(zhàn)略,從競爭角度看,美、日、歐等發(fā)達國家已將第三代半導(dǎo)體材料列入國家計劃,并展開全面戰(zhàn)略部署,欲搶占戰(zhàn)略制高點。
       
        (四)國家意志驅(qū)動產(chǎn)業(yè)發(fā)展,第三代半導(dǎo)體迎來機遇
       
        我國政府高度重視第三代半導(dǎo)體材料的研究與開發(fā),從2004年開始對第三代半導(dǎo)體領(lǐng)域的研究進行了部署,啟動了一系列重大研究項目,2013年科技部在863計劃新材料技術(shù)領(lǐng)域項目征集指南中明確將第三代半導(dǎo)體材料及應(yīng)用列為重要內(nèi)容。2015年5月,國務(wù)院發(fā)布《中國制造2025》,新材料是《〈中國制造2025〉重點領(lǐng)域技術(shù)路線圖》中重點領(lǐng)域之一,其中第三代半導(dǎo)體被納入關(guān)鍵戰(zhàn)略材料發(fā)展重點;同年,京津冀聯(lián)合共建了第三代半導(dǎo)體材料及應(yīng)用聯(lián)合創(chuàng)新基地,欲搶占第三代半導(dǎo)體戰(zhàn)略新高地,并引進優(yōu)勢創(chuàng)新資源。2016年作為“十三五”開局之年,科技部、工信部、國家發(fā)改委等多部委出臺多項政策,對第三代半導(dǎo)體材料進行布局。從政策的內(nèi)容來看,科技創(chuàng)新仍是重點,產(chǎn)業(yè)化布局、專業(yè)人才儲備、投資鼓勵、產(chǎn)業(yè)園規(guī)劃建設(shè)、生產(chǎn)制造扶植等方面的支持政策也逐步出臺,力爭全面實現(xiàn)“換道超車”。地方政策也在2016年大量出臺,一方面多地均將第三代半導(dǎo)體寫入“十三五”相關(guān)規(guī)劃(17項);另一方面不少地方政府有針對性的對當(dāng)?shù)鼐哂幸欢▋?yōu)勢的SiC和GaN材料企業(yè)進行扶持。
       
        (原標(biāo)題:緣何說第三代半導(dǎo)體會爆發(fā)?)
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