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2024-10-21 09:51:48來源:快科技 關(guān)鍵詞:EUV光刻機(jī)芯片制造設(shè)備閱讀量:23797
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美國(guó)開發(fā)新一代BAT激光器:遠(yuǎn)超現(xiàn)有EUV光刻 效率提升10倍!
美國(guó)勞倫斯利弗莫爾國(guó)家實(shí)驗(yàn)室(LLNL)正在研究一種效率比傳統(tǒng)CO2 EUV激光器高10倍的激光器,這將為下一代EUV光刻技術(shù)發(fā)展奠定基礎(chǔ)。價(jià)值3.83億美元!Intel拿下全球第二臺(tái)High NA EUV光刻機(jī)
在近日的財(cái)報(bào)電話會(huì)議上,Intel CEO宣布已成功接收全球第二臺(tái)價(jià)值3.83億美元的High NA EUV(極紫外光刻機(jī))。中國(guó)成日本芯片制造設(shè)備最大市場(chǎng)!已連續(xù)三季度占比超50%
據(jù)媒體報(bào)道,根據(jù)最新數(shù)據(jù),中國(guó)市場(chǎng)已連續(xù)三個(gè)季度成為日本芯片制造設(shè)備的最大出口目的地,占比超過50%。ASML2023年第四季度EUV光刻機(jī)預(yù)訂量達(dá)56億歐元
ASML在2023年來自中國(guó)的業(yè)務(wù)訂單量激增,主要因?yàn)橹袊?guó)的芯片制造商們?cè)诩磳⒌絹淼某隹诠苤浦按蠓黾恿斯饪虣C(jī)訂單。消息稱臺(tái)積電亞利桑那州工廠已開始安裝首臺(tái)EUV光刻機(jī)
EUV光刻機(jī)是5nm、4nm、3nm等先進(jìn)制程工藝必不可少的設(shè)備,對(duì)晶圓代工至關(guān)重要。凡本站注明“來源:智能制造網(wǎng)”的所有作品,均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡(luò)有限公司-智能制造網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品,未經(jīng)本站授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的,應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用,并注明“來源:智能制造網(wǎng)”。違反上述聲明者,本站將追究其相關(guān)法律責(zé)任。
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國(guó)產(chǎn)海光處理器上架式4U工控機(jī)
工業(yè)控制計(jì)算機(jī),集特智能,上架式工控機(jī),國(guó)產(chǎn)海光處理器,國(guó)產(chǎn)4U工控機(jī)德國(guó)Kern Sohn分析天平EW 2200-2NM
Kern & Sohn,德國(guó)Kern & Sohn,Kern & Sohn天平,EW 2200-2NM,分析天平功能豐富 實(shí)時(shí)交流
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