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2024-01-29 10:57:48來(lái)源:半導(dǎo)體器件應(yīng)用網(wǎng) 厲丹 關(guān)鍵詞:光刻機(jī)設(shè)備EUV光刻機(jī)閱讀量:21789
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美國(guó)開(kāi)發(fā)新一代BAT激光器:遠(yuǎn)超現(xiàn)有EUV光刻 效率提升10倍!
美國(guó)勞倫斯利弗莫爾國(guó)家實(shí)驗(yàn)室(LLNL)正在研究一種效率比傳統(tǒng)CO2 EUV激光器高10倍的激光器,這將為下一代EUV光刻技術(shù)發(fā)展奠定基礎(chǔ)。三星美國(guó)芯片工廠推遲接收EUV光刻機(jī):項(xiàng)目未找到大客戶
三星電子已決定推遲接收來(lái)自荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥(ASML)的芯片制造設(shè)備。這批設(shè)備原本計(jì)劃用于三星電子在得克薩斯州泰勒市斥資170億美元新建的工廠。消息稱臺(tái)積電亞利桑那州工廠已開(kāi)始安裝首臺(tái)EUV光刻機(jī)
EUV光刻機(jī)是5nm、4nm、3nm等先進(jìn)制程工藝必不可少的設(shè)備,對(duì)晶圓代工至關(guān)重要。ASML下一代EUV光刻機(jī)啟動(dòng):核心部件到貨
在本季度中,ASML公司下一代的高NA孔徑EUV光刻機(jī)獲得了重大突破,已經(jīng)收到了來(lái)自供應(yīng)商的物鏡、光源及工作臺(tái),這也是光刻機(jī)的三大核心部件,關(guān)系著光刻機(jī)的正常運(yùn)行。英特爾愛(ài)爾蘭芯片制造工廠迎來(lái)首臺(tái)EUV光刻機(jī)
芯片巨頭英特爾在位于愛(ài)爾蘭 Leixlip 的 Fab 34 工廠,完成了首臺(tái)極紫外(EUV)光刻機(jī)的安裝。兩個(gè)月前,該公司才開(kāi)始在該晶圓廠安裝首臺(tái)芯片制造設(shè)備。而由荷蘭阿斯麥(ASML)制造的這臺(tái) EUV 光刻機(jī),先是被運(yùn)到了美國(guó)俄勒岡州的 Hillsboro,接著又被轉(zhuǎn)運(yùn)到了歐洲。投資5000多萬(wàn) 俄羅斯計(jì)劃研發(fā)全新EUV光刻機(jī)
EUV光刻機(jī)全球也只有ASML公司能夠研發(fā)、生產(chǎn),但它的技術(shù)限制也很多,俄羅斯計(jì)劃開(kāi)發(fā)全新的EUV光刻機(jī),使用的是X射線技術(shù),不需要光掩模就能生產(chǎn)芯片。凡本站注明“來(lái)源:智能制造網(wǎng)”的所有作品,均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡(luò)有限公司-智能制造網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品,未經(jīng)本站授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的,應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用,并注明“來(lái)源:智能制造網(wǎng)”。違反上述聲明者,本站將追究其相關(guān)法律責(zé)任。
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