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      牙膏踩爆!Intel 5nm工藝曝光:直逼IBM 2nm

      2021-07-14 15:24:10來源:快科技 關(guān)鍵詞:IntelCPU處理器閱讀量:24623

      導(dǎo)讀:作為半導(dǎo)體工業(yè)中的核心,芯片制造是最關(guān)鍵也是最難的,進(jìn)入10nm節(jié)點之后全球現(xiàn)在也就是臺積電、Intel、三星三家公司選擇繼續(xù)玩下去。
        作為半導(dǎo)體工業(yè)中的核心,芯片制造是最關(guān)鍵也是最難的,進(jìn)入10nm節(jié)點之后全球現(xiàn)在也就是臺積電、Intel、三星三家公司選擇繼續(xù)玩下去。表面來看Intel的進(jìn)度是最慢的,然而其他兩家的工藝“水分”也不小,三星的3nm工藝密度才跟Intel的7nm差不多。
       
        Digitimes日前發(fā)表了研究報告,分析了三星、臺積電、Intel及IBM四家的半導(dǎo)體工藝密度問題,對比了10nm、7nm、5nm、3nm及2nm的情況。
       
        在10nm節(jié)點,三星的晶體管密度只有0.52億/mm2,臺積電是0.53億/mm2,Intel已經(jīng)達(dá)到了1.06億/mm2,密度高出一倍左右。
       
        7nm節(jié)點,三星的工藝密度是0.95億/mm2,臺積電是0.97億/mm2,Intel的7nm則是1.8億/mm2,依然高出80%以上。
       
        再往后的5nm節(jié)點上,三星實現(xiàn)了1.27億/mm2的密度,臺積電達(dá)到了1.73億/mm2,Intel的目標(biāo)是3億/mm2,三星與其他兩家的差距愈發(fā)拉大。
       
        到了3nm節(jié)點,臺積電的晶體管密度大約是2.9億/mm2,三星只有1.7億/mm2,Intel的目標(biāo)是5.2億/mm2。
       
        2nm節(jié)點沒多少數(shù)據(jù),IBM之前聯(lián)合三星等公司發(fā)布的2nm工藝密度大約是3.33億/mm2,臺積電的的目標(biāo)是4.9億/mm2。
       
        以上數(shù)據(jù)其實不能100%反映各家的技術(shù)水平,還要考慮到性能、功耗、成本的差距,但就摩爾定律關(guān)注的密度來看,Intel在這方面基本還是按照之前的規(guī)范走的,三星、臺積電工藝宣傳注水也不是什么新聞了。
       
        當(dāng)然,三星這方面的浮夸可能更多一些,3nm節(jié)點的密度也不過是Intel的7nm水平,Intel的5nm工藝都能夠直逼IBM 2nm水平,不知道這該說Intel太老實還是其他公司太滑頭呢?
       
        (原標(biāo)題:牙膏踩爆!Intel 5nm工藝曝光:直逼IBM 2nm)
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