昆侖通態(tài) 15.6 寸工業(yè)自動(dòng)化觸摸屏
智能制造 HMI 人機(jī)界,智能工廠 MES 系統(tǒng)終端,設(shè)備運(yùn)維觸控操作屏,工業(yè)級(jí)穩(wěn)定性設(shè)計(jì),工業(yè)觸控屏功能豐富 實(shí)時(shí)交流
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2021-05-18 09:08:34來(lái)源:TechWeb 關(guān)鍵詞:EUV光刻機(jī)光刻機(jī)閱讀量:21855
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能生產(chǎn)3nm!中科院成功研發(fā)全固態(tài)DUV光源技術(shù):完全不同于ASML
中科院的固態(tài)DUV激光技術(shù)完全基于固態(tài)設(shè)計(jì),由自制的Yb:YAG晶體放大器生成1030nm的激光,在通過(guò)兩條不同的光學(xué)路徑進(jìn)行波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換。Intel宣布世界最先進(jìn)光刻機(jī)投產(chǎn)!晶圓生產(chǎn)效率/可靠性翻倍
Intel宣布,ASML首批兩臺(tái)高數(shù)值孔徑(High-NA EUV)極紫光刻機(jī)已經(jīng)在其工廠投入生產(chǎn)。據(jù)悉,Intel利用先進(jìn)光刻機(jī)已在一季內(nèi)生產(chǎn)3萬(wàn)片晶圓,這些晶圓可以產(chǎn)出數(shù)千顆計(jì)算芯片。美國(guó)開(kāi)發(fā)新一代BAT激光器:遠(yuǎn)超現(xiàn)有EUV光刻 效率提升10倍!
美國(guó)勞倫斯利弗莫爾國(guó)家實(shí)驗(yàn)室(LLNL)正在研究一種效率比傳統(tǒng)CO2 EUV激光器高10倍的激光器,這將為下一代EUV光刻技術(shù)發(fā)展奠定基礎(chǔ)。日本首臺(tái) EUV 光刻機(jī)開(kāi)始安裝
Rapidus 購(gòu)入的光刻機(jī)由荷蘭供應(yīng)商 ASML 生產(chǎn),型號(hào)為 NXE:3800E,晶圓吞吐量相較上代提升 37.5%,可以滿足 Rapidus 對(duì)于 2nm 芯片的制造需求。三星美國(guó)芯片工廠推遲接收EUV光刻機(jī):項(xiàng)目未找到大客戶
三星電子已決定推遲接收來(lái)自荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥(ASML)的芯片制造設(shè)備。這批設(shè)備原本計(jì)劃用于三星電子在得克薩斯州泰勒市斥資170億美元新建的工廠。25億一臺(tái)!英特爾搞定2臺(tái)史上最先進(jìn)光刻機(jī)安裝
ASML新任CEO近日公開(kāi)表示,兩臺(tái)High NA EUV光刻機(jī)(單臺(tái)設(shè)備的售價(jià)約為3.5億美元)已經(jīng)在英特爾安裝完成了。凡本站注明“來(lái)源:智能制造網(wǎng)”的所有作品,均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡(luò)有限公司-智能制造網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品,未經(jīng)本站授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的,應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用,并注明“來(lái)源:智能制造網(wǎng)”。違反上述聲明者,本站將追究其相關(guān)法律責(zé)任。
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智能制造 HMI 人機(jī)界,智能工廠 MES 系統(tǒng)終端,設(shè)備運(yùn)維觸控操作屏,工業(yè)級(jí)穩(wěn)定性設(shè)計(jì),工業(yè)觸控屏Elma easy30H的動(dòng)態(tài)和節(jié)能模式的超聲波頻率
37赫茲的超聲波頻率,科研、醫(yī)療、工業(yè)清洗,集成掃描功能,不銹鋼,elma easy 30H環(huán)形防爆高壓風(fēng)機(jī)現(xiàn)貨
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