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      突破14nm工藝壁壘:天準(zhǔn)科技發(fā)布TB2000晶圓缺陷檢測(cè)裝備

      2025年03月26日 09:57來(lái)源:天準(zhǔn)科技人氣:172

        開(kāi)啟國(guó)產(chǎn)缺陷檢測(cè)新紀(jì)元
       
        3月26日,蘇州天準(zhǔn)科技股份有限公司(股票代碼:688003.SH)宣布,旗下矽行半導(dǎo)體公司研發(fā)的明場(chǎng)納米圖形晶圓缺陷檢測(cè)裝備TB2000已正式通過(guò)廠內(nèi)驗(yàn)證,將于SEMICON 2025展會(huì)天準(zhǔn)展臺(tái)(T0-117)現(xiàn)場(chǎng)正式發(fā)布。
       
        這標(biāo)志著公司半導(dǎo)體檢測(cè)裝備已具備14nm及以下先進(jìn)制程的規(guī)?;慨a(chǎn)檢測(cè)能力。這是繼TB1500突破40nm節(jié)點(diǎn)后,天準(zhǔn)在高端檢測(cè)裝備國(guó)產(chǎn)化進(jìn)程中的又一里程碑。
       
        核心技術(shù)自主研發(fā)
       
        TB2000采用全自主研發(fā)的高功率寬光譜激光激發(fā)等離子體光源系統(tǒng)、深紫外大通量高像質(zhì)成像系統(tǒng),配合高行頻TDI相機(jī)、超精密高速運(yùn)動(dòng)平臺(tái),同時(shí)結(jié)合AI圖像處理算法和Design CA,有效提升缺陷檢測(cè)靈敏度和檢測(cè)速度。
       
        TB2000的發(fā)布,使天準(zhǔn)成為全球少數(shù)具備14nm及以下技術(shù)節(jié)點(diǎn)明場(chǎng)檢測(cè)裝備交付能力的廠商,逐步實(shí)現(xiàn)先進(jìn)工藝中缺陷檢測(cè)裝備的國(guó)產(chǎn)替代。
      梯度化矩陣實(shí)現(xiàn)全節(jié)點(diǎn)覆蓋
       
        當(dāng)前天準(zhǔn)科技的產(chǎn)品矩陣已完成明場(chǎng)缺陷檢測(cè)裝備全制程覆蓋,TB1000/TB1100(65-90nm)、TB1500(40nm)及TB2000(14nm)構(gòu)建起完整的工藝節(jié)點(diǎn)適配體系,全面滿足邏輯、存儲(chǔ)等不同工藝客戶產(chǎn)線上的明場(chǎng)缺陷檢測(cè)需求。這種梯度化布局既保障了技術(shù)研發(fā)的商業(yè)閉環(huán),又為持續(xù)突破更先進(jìn)制程積蓄動(dòng)能。從TB1000到TB2000的技術(shù)演進(jìn),折射出天準(zhǔn)向國(guó)際龍頭追趕到并行的角色轉(zhuǎn)變。
       
        此外,天準(zhǔn)科技通過(guò)"自主研發(fā)+跨國(guó)并購(gòu)+生態(tài)投資"三維戰(zhàn)略,陸續(xù)推出晶圓微觀缺陷檢測(cè)、Overlay量測(cè)、CD量測(cè)、掩膜量測(cè)與檢測(cè)等系列產(chǎn)品組合,打造了在半導(dǎo)體前道量測(cè)及檢測(cè)領(lǐng)域的布局,構(gòu)建覆蓋晶圓制造、掩膜制造、封裝測(cè)試全流程的智能檢測(cè)解決方案。
       
      天準(zhǔn),助力半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)迭代
       
        據(jù)世界集成電路協(xié)會(huì)(WICA)發(fā)布的2025年展望報(bào)告,預(yù)計(jì)2025年全球半導(dǎo)體市場(chǎng)規(guī)模將提升到7189億美元,同比增長(zhǎng)13.2%,尤其是14nm及以下的高端檢測(cè)裝備市場(chǎng),受到技術(shù)迭代和市場(chǎng)需求增長(zhǎng)的雙重驅(qū)動(dòng),將繼續(xù)保持快速增長(zhǎng)態(tài)勢(shì)。
       
        此次TB2000的發(fā)布,意味著在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)逆全球化態(tài)勢(shì)加劇的當(dāng)下,天準(zhǔn)科技以每年迭代一代產(chǎn)品的研發(fā)節(jié)奏,構(gòu)建起覆蓋芯片制造前道關(guān)鍵檢測(cè)節(jié)點(diǎn)的技術(shù)護(hù)城河。未來(lái),天準(zhǔn)科技將持續(xù)投入研發(fā)資源,持續(xù)深化平臺(tái)化技術(shù)優(yōu)勢(shì),加速推進(jìn)14nm以下制程國(guó)產(chǎn)化進(jìn)程,助力中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)突破"卡脖子"技術(shù)壁壘,在高端裝備領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)跨越式發(fā)展。
       
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