一、高純水設(shè)備（EDI）概述：

　　EDI高純水設(shè)備作為制取超純水的設(shè)備，作為反滲透設(shè)備后的二次除鹽設(shè)備，可以制取出高達(dá)10-18.2MΩ.CM。因此廣泛用于微電子工業(yè)，半導(dǎo)體工業(yè)，發(fā)電工業(yè)，制藥行業(yè)和實驗室。也可以作為制藥蒸餾水、食物和飲料生產(chǎn)用水、發(fā)電廠的鍋爐的補(bǔ)給水，以及其它應(yīng)用高純水。

二、高純水設(shè)備的本質(zhì)及原理

　　連續(xù)電除鹽（EDI，Electro deionization或CDI，continuous electrode ionization）,是利用混和離子交換樹脂吸附給水中的陰陽離子，同時這些被吸附的離子又在直流電壓的作用下，分別透過陰陽離子交換膜而被除去的過程。這一過程離子交換樹脂是電連續(xù)再生的，因此不需要使用酸和堿對之再生。這一新技術(shù)可以替代傳統(tǒng)的離子交換裝置，生產(chǎn)出高達(dá)18M-CM的超純水。又可以比較清晰地描述如下：EDI是利用陰、

陽離子膜，采用對稱堆放的形式，在陰、陽離子膜中間夾著陰、陽離子樹脂，分別在直流電壓的作用下，進(jìn)行陰、陽離子交換。而同時在電壓梯度的作用下，水會發(fā)生電解產(chǎn)生大量H+和OH-，這些H+和OH-對離子膜中間的陰、陽離子不斷地進(jìn)行了再生。由于EDI不停進(jìn)行交換——再生，使得純水度越來越高，所以，輕而易舉的產(chǎn)生了高純度的高純水。

三、EDI高純水設(shè)備的組成部分

　　1、采用美國進(jìn)口Electropure XL-400模塊5塊；

　　2、 美國Hanna電阻率、電導(dǎo)率在線監(jiān)側(cè)儀表一組；

　　3、電源控制系統(tǒng)：主要電器元件為施乃得、歐姆龍及國產(chǎn)優(yōu)質(zhì)器件，采用PLC控制，電動球閥、施乃得電器元件；

四、EDI高純水設(shè)備性能優(yōu)勢：

　　1、可連續(xù)，穩(wěn)定地生產(chǎn)高品質(zhì)純水，無需因樹脂再生而停機(jī)；

　　2、無污染物排放，既環(huán)保又省去了廢液處理的投資；

　　3、設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積小，節(jié)省空間，同時還具有節(jié)能優(yōu)點；

　　4、出廠完成裝置調(diào)試，現(xiàn)場工作量小，上崗培訓(xùn)容易；

　　5、日常保養(yǎng)，操作簡單，勞動強(qiáng)度低。

6、脫鹽率大于99.9%，效率遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于兩級反滲透和單純的離子交換。