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超高速研磨分散機采用優(yōu)化設(shè)計理念,將先x的技術(shù)與創(chuàng)x的思維有效融合,并體現(xiàn)在具體的設(shè)備結(jié)構(gòu)設(shè)計中,為設(shè)備穩(wěn)定運行提供了保證. 采用整體式機械密封,zui大程度上解決了高速運轉(zhuǎn)下的物料泄漏以及冷卻介質(zhì)污染等問題,安裝與更換方便快捷.
石墨烯目前是世上zui薄卻也是zui堅硬的納米材料 ,為世上電阻率zui小的材料。因為它的電阻率極低,電子遷移的速度極快,因此被期待可用來發(fā)展出更薄、導(dǎo)電速度更快的新一代電子元件或晶體管。由于石墨烯實質(zhì)上是一種透明、良好的導(dǎo)體,也適合用來制造透明觸控屏幕、光板、甚至是太陽能電池。所以越來越多的廠家開始研究和生產(chǎn)石墨烯。
石墨烯的應(yīng)用十分廣泛,如:石墨烯鋰電池漿料、石墨烯導(dǎo)電漿料、石墨烯涂料、石墨烯復(fù)合材料、石墨烯潤滑油等等。石墨烯漿料zui大的難點就是分散問題,石墨烯分散到NMP中,石墨烯分散到水中,石墨烯分散到潤滑油中,都要解決一個研磨分散剝離的問題。
制備石墨烯的方法有很多。但歸納起來兩大類,一類是從大往小做,也叫自上而下法。例如,以石墨為原料,通過膠帶粘貼、氧化還原、液相插層和機械剝離等手段破壞石墨晶體的長程有序堆疊,得到單層或少數(shù)幾層的石墨烯。另一類是從小往大長,也叫自下而上法。例如,以含碳小分子等為前驅(qū)體,采用化學(xué)氣相沉積、外延生長和有機合成等方法將碳素組裝成石墨烯。
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使用氧化還原法制備的石墨烯,含有較豐富的含氧官能團,易于改性。但由于在對氧化石墨烯進行還原時,較難控制還原后石墨烯的氧含量,同時氧化石墨烯在陽光照射、運輸時車廂內(nèi)高溫等外界每件影響下會不斷的還原,因此氧化還原法生產(chǎn)的石墨烯逐批產(chǎn)品的品質(zhì)往往不*,難以控制品質(zhì)。
目前不少人將氧化石墨、氧化石墨烯、還原氧化石墨烯概念理解混淆。氧化石墨呈棕色,為石墨與氧化物聚合體。 氧化石墨烯系將氧化石墨剝離至單層、雙層或寡層后的產(chǎn)物,含有大量的含氧基團,因此氧化石墨烯不導(dǎo)電,氧化石墨烯性質(zhì)活躍,在使用過程中特別是參與高溫材料加工過程中,會不斷還原并釋放出二氧化硫等氣體。 通過將氧化石墨烯還原之后的產(chǎn)品,才能稱為石墨烯(還原氧化石墨烯)。
上海依肯的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續(xù)24小時不停機運行。簡單的說就是將IKN/依肯膠體磨進行進一步的改良,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級模塊,加入了一級分散盤。可根據(jù)物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇) IKN研磨分散機可以高速研磨,分散,乳化,均質(zhì)等功能,設(shè)備轉(zhuǎn)速可達14000rpm,是目前普通設(shè)備轉(zhuǎn)速的4-5倍。
CMD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu):研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
*級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。
工藝應(yīng)用
可溶物(或互溶物)固體和液體加速溶解 | 溶液中顆粒及脂肪球等超細(xì)破碎與均質(zhì)。 |
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