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ikn水性石墨烯漿料研磨分散機(jī)

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公司名稱上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司
品牌
型號(hào)CMSD2000/4
所在地上海市
廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
更新時(shí)間2019/5/27 18:22:24
訪問次數(shù)329

產(chǎn)品標(biāo)簽:

水性石墨烯漿料石墨烯漿料化工設(shè)備高剪切研磨分散機(jī)新型研磨分散機(jī)不銹鋼研磨分散機(jī)

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公司介紹主營(yíng)產(chǎn)品

上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司是一家中德合作經(jīng)營(yíng)企業(yè)，依肯通過(guò)引進(jìn)德國(guó)IKN技術(shù)和科學(xué)管理模式，形成了完整的研發(fā)、制造及營(yíng)銷體系。她保持與的混合乳化技術(shù)同步，同時(shí)擁有XX的技術(shù)研究人才和生產(chǎn)能力，為中國(guó)及提供多元化的產(chǎn)品及技術(shù)服務(wù)。她已經(jīng)發(fā)展成為中國(guó)流體高剪切混合設(shè)備行業(yè)的XX者。

公司主要研發(fā)，生產(chǎn)制造，銷售流體領(lǐng)域的幾大系列：一乳化機(jī)，二均質(zhì)機(jī)，三分散機(jī)，四膠體磨，五乳化泵，六成套設(shè)備等系列。為混合、分散、均質(zhì)、懸浮、乳化、濕磨、粉液混合等領(lǐng)域提供高品質(zhì)的解決方案，設(shè)備加工材料細(xì)度可達(dá)微納米級(jí)別。依肯公司作為國(guó)內(nèi)的供應(yīng)商，憑借著對(duì)廣大客戶要求的深入了解，為客戶解決流程工藝中的難題，混合技術(shù)，乳化均質(zhì)，粉液混合技術(shù)和合理的配置方案，確保設(shè)備運(yùn)行穩(wěn)定的可靠性。她已廣泛應(yīng)用于石油、石化、化工、食品、生物制藥、核工業(yè)、精細(xì)化工等領(lǐng)域，并成功為國(guó)家重點(diǎn)工程配套，部分產(chǎn)品返銷國(guó)外，取得了顯著的經(jīng)濟(jì)效益和社會(huì)效益。

“追求高品質(zhì)”是依肯公司是的宗旨。“成功源自創(chuàng)新”亦是公司全體員工一直努力追隨的目標(biāo)。上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司將以求實(shí)、創(chuàng)新的企業(yè)精神走向市場(chǎng)。在您在關(guān)注和支持下、她將以不斷發(fā)展壯大，在混合乳化設(shè)備制造的廣闊天地中散發(fā)出*的魅力。

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乳化機(jī)，均質(zhì)機(jī)，分散機(jī)，膠體磨，研磨分散機(jī)，粉液混合機(jī)

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ikn水性石墨烯漿料研磨分散機(jī)立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國(guó)博格曼雙端面機(jī)械密封，并通冷媒對(duì)密封部分進(jìn)行冷卻，把泄露概率降到低，保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。

ikn水性石墨烯漿料研磨分散機(jī) 產(chǎn)品信息

產(chǎn)品關(guān)鍵詞：ikn水性石墨烯漿料研磨分散機(jī) 水性石墨烯漿料生產(chǎn)設(shè)備，水性石墨烯漿料高剪切分散機(jī)，水性石墨烯涂料高速分散機(jī)，石墨烯剝離設(shè)備，石墨烯高剪切分散機(jī)，石墨烯分層設(shè)備

石墨烯目前是世上zui薄卻也是zui堅(jiān)硬的納米材料，為世上電阻率zui小的材料。因?yàn)樗碾娮杪蕵O低，電子遷移的速度極快，因此被期待可用來(lái)發(fā)展出更薄、導(dǎo)電速度更快的新一代電子元件或晶體管。由于石墨烯實(shí)質(zhì)上是一種透明、良好的導(dǎo)體，也適合用來(lái)制造透明觸控屏幕、光板、甚至是太陽(yáng)能電池。所以越來(lái)越多的廠家開始研究和生產(chǎn)石墨烯。
上海IKN也響應(yīng)這個(gè)新興產(chǎn)業(yè)的號(hào)召，隨之研發(fā)出石墨烯高剪切研磨分散機(jī)，在生產(chǎn)石墨烯的過(guò)程中，如何將石墨更好的細(xì)化，以及細(xì)化后團(tuán)聚問題的解決，成為的zui大的難點(diǎn)。
石墨烯漿料分為兩種，以水為介質(zhì)分散叫水性，以NMP為介質(zhì)分散叫油性，石墨烯根據(jù)石墨烯原料的不同，一般含量在2.5-5的固含量之間打成漿料，影響石墨烯分散或者剝離的因素有很多，設(shè)備的選型，分散劑的使用，固含量的把握
石墨烯主要制備方法：
制備石墨烯常見的方法為機(jī)械剝離法、氧化還原法、SiC外延生長(zhǎng)法和化學(xué)氣相沉積法（CVD）。

IKN石墨烯研磨設(shè)備采用德國(guó)先x的高速研磨分散技術(shù)，通過(guò)超高轉(zhuǎn)速（可達(dá)14000rpm）帶動(dòng)超高精密的磨頭定轉(zhuǎn)子（通常配CM+8SF，定轉(zhuǎn)子間隙在0.2-0.3之間）使石墨烯漿料在設(shè)備的高線速度下形成湍流，在定轉(zhuǎn)子間隙里不斷的撞擊、破碎、研磨、分散、均質(zhì)，從而得出超細(xì)的顆粒（當(dāng)然也需要合適的分散劑做助劑）。綜合以上幾點(diǎn)可以得出理想的導(dǎo)電石墨烯漿料。

水性石墨烯漿料生產(chǎn)設(shè)備

在做納米粉體分散或研磨時(shí)，因?yàn)榉垠w尺度由大變小的過(guò)程中，范德華力及布朗運(yùn)動(dòng)現(xiàn)象逐漸明顯且重要。選擇適當(dāng)助劑以避免粉體再次凝聚及選擇適當(dāng)?shù)难心C(jī)來(lái)控制研磨漿料溫度以降低或避免布朗運(yùn)動(dòng)影響，是濕法研磨分散方法能否成功地得到納米級(jí)粉體研磨及分散關(guān)鍵技術(shù)。

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1.機(jī)械剝離法是利用物體與石墨烯之間的摩擦和相對(duì)運(yùn)動(dòng)，得到石墨烯薄層材料的方法。這種方法操作簡(jiǎn)單，得到的石墨烯通常保持著完整的晶體結(jié)構(gòu)，但是得到的片層小，生產(chǎn)效率低。

2.氧化還原法是通過(guò)將石墨氧化，增大石墨層之間的間距，再通過(guò)物理方法將其分離，***后通過(guò)化學(xué)法還原，得到石墨烯的方法。這種方法操作簡(jiǎn)單，產(chǎn)量高，目前國(guó)內(nèi)使用氧化，還原法制作石墨烯漿料的，如：寧波墨
稀、東莞鴻納、第六元素等企業(yè)，
3.SiC外延法是通過(guò)在超高真空的高溫環(huán)境下，使硅原子升華脫離材料，剩下的C原子通過(guò)自組形式重構(gòu)，從而得到基于SiC襯底的石墨烯。這種方法可以獲得高質(zhì)量的石墨烯，但是這種方法對(duì)設(shè)備要求較高

4.CVD也叫氣相沉積法是目前***有可能實(shí)現(xiàn)工業(yè)化制備高質(zhì)量、大面積石墨烯的方法。這種方法制備的石墨烯具有面積大和質(zhì)量高的特點(diǎn)，國(guó)內(nèi)用氣相沉積法制作石墨烯漿料的如重慶墨稀、常州第六元素等企業(yè)

CMD2000系列研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu)：研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。
*級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。
CMD2000系列設(shè)備選型表

水性石墨烯漿料生產(chǎn)設(shè)備，水性石墨烯漿料高剪切分散機(jī)，水性石墨烯涂料高速分散機(jī)，石墨烯剝離設(shè)備，石墨烯高剪切分散機(jī)，石墨烯分層設(shè)備

型號(hào)	流量 L/H	轉(zhuǎn)速 rpm	線速度 m/s	功率 kw	入/出口連接 DN
CMD2000/4	300	9000	23	2.2	DN25/DN15
CMD2000/5	1000	6000	23	7.5	DN40/DN32
CMD2000/10	2000	4200	23	22	DN80/DN65
CMD2000/20	5000	2850	23	37	DN80/DN65
CMD2000/30	8000	1420	23	55	DN150/DN125
CMD2000/50	15000	1100	23	11O	DN200/DN150