井式/立式真空爐主要用于半導(dǎo)體器件燒結(jié)、封焊，太陽(yáng)能電池片烘干、焊接及金屬化管殼等氣密性封裝，玻璃容器的燒結(jié)及各種零件在氫氮保護(hù)下進(jìn)行的工藝 。 井式真空爐主要技術(shù)參數(shù)  u真空室工位數(shù)：1-3位 u真空度：1Pa，加擴(kuò)散泵為5x10-3Pa u工作溫度：<1000℃ u充氣的zui高壓強(qiáng)：0.3Mpa（可控） u不銹鋼內(nèi)膽：Φ150-Φ350x1300mm（用戶自定） u恒溫區(qū)：600-1200mm±1℃ u控溫方式：三點(diǎn)三段采用*高精度控溫儀 u控溫曲線：9段升降溫/999小時(shí) u工作方式：自動(dòng)或手動(dòng)自由轉(zhuǎn)換 u單點(diǎn)精度：±1℃/24h u正壓、負(fù)壓均采用數(shù)字顯示表 u可多工位同時(shí)工作