小型研磨機(jī),實(shí)驗(yàn)室研磨機(jī),德國(guó)小型研磨機(jī),進(jìn)口小型研磨機(jī),納米研磨機(jī)是比普通的研磨機(jī)的速度達(dá)到4-5倍以上,分散乳化均質(zhì)研磨效果非常好,zuigao轉(zhuǎn)速可以達(dá)到14000RPM。
小型研磨機(jī)是 研磨:利用剪切力(shear force)、摩擦力或沖擊力(impactforce)將粉體由大顆粒粉碎成小顆粒。
分散:納米粉體被其所添加溶劑、助劑、分散劑、樹(shù)脂等包覆住,以便達(dá)到顆粒*被分離(separating)、潤(rùn)濕(wetting)、分布(distributing)均勻及穩(wěn)定(stabilization)目的。
在做納米粉體分散或研磨時(shí),因?yàn)榉垠w尺度由大變小的過(guò)程中,范德華力及布朗運(yùn)動(dòng)現(xiàn)象逐漸明顯且重要。選擇適當(dāng)助劑以避免粉體再次凝聚及選擇適當(dāng)?shù)难心C(jī)來(lái)控制研磨漿料溫度以降低或避免布朗運(yùn)動(dòng)影響,是濕法研磨分散方法能否成功地得到納米級(jí)粉體研磨及分散關(guān)鍵技術(shù)。
小型研磨機(jī),實(shí)驗(yàn)室研磨機(jī),德國(guó)小型研磨機(jī),進(jìn)口小型研磨是比普通的研磨機(jī)的速度達(dá)到4-5倍以上,分散乳化均質(zhì)研磨效果非常好,zui高轉(zhuǎn)速可以達(dá)到14000RPM。
是由膠體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。
*級(jí)由具有精細(xì)度遞升的多級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來(lái)滿足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對(duì)制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。
CMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的多級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
小型研磨機(jī)的眼膜效果 影響研磨粉碎結(jié)果的因素有以下幾點(diǎn)
2 膠體磨磨頭頭的剪切速率 (越大,效果越好)
3 膠體磨頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒,中齒,細(xì)齒,超細(xì)齒,約細(xì)齒效果越好)
4 物料在研磨腔體的停留時(shí)間,研磨粉碎時(shí)間(可以看作同等的電機(jī),流量越小,效果越好)
5 循環(huán)次數(shù)(越多,效果越好,到設(shè)備的期限,就不能再好)
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剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
由上可知,剪切速率取決于以下因素:
轉(zhuǎn)子的線速率
在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
小型研磨機(jī)的參數(shù)和規(guī)格CMD2000/4(LP系列)為實(shí)驗(yàn)室研磨分散機(jī)的技術(shù)參數(shù):功率4KW,轉(zhuǎn)速0-14000rpm,線速度 0-40m/s,電壓380V,機(jī)器產(chǎn)量為 0– 50 升/小時(shí)(水),重量40KG,尺寸 (長(zhǎng)寬高)(450X250X350)MM,LP使用軸封(PTFE 環(huán)),在正常的情況下,一般軸封可以使用3000-4000次。LP不能24小時(shí)連續(xù)使用,一般zui多可以使用連續(xù)半個(gè)小時(shí),這要依據(jù)料液的溫度和轉(zhuǎn)速而定。LP也可以通過(guò)變換模塊,可以實(shí)現(xiàn)多功能多用途。是實(shí)驗(yàn)室zuijia選擇。
CMD2000/4(PP系列)為研磨分散機(jī)的技術(shù)參數(shù):功率4 KW,轉(zhuǎn)速0-14000rpm,線速度 0-40m/s,電壓380V,機(jī)器產(chǎn)量為 0– 50 升/小時(shí)(水),重量55KG, 尺寸 (長(zhǎng)寬高)((450X250X350)MM,PP使用雙機(jī)械密封,可24小時(shí)不停機(jī)連續(xù)生產(chǎn),并通冷媒對(duì)密封部分進(jìn)行冷卻。通過(guò)變換模塊,可以實(shí)現(xiàn)多功能多用途。機(jī)械密封和機(jī)械設(shè)計(jì)符合3A健康標(biāo)準(zhǔn),是中試和小批量生產(chǎn)的zuijia選擇。,德國(guó)小型研磨機(jī),進(jìn)口小型研磨機(jī),納米研磨機(jī)詳情請(qǐng)接洽上海依肯,段,手機(jī) ,公司有樣機(jī)供客戶實(shí)驗(yàn)