新型超高速納米氧化鋅研磨分散機(jī)

納米氧化鋅是一種多功能性的新型無機(jī)材料，其顆粒大小約在1～100納米。由于晶粒的細(xì)微化，其表面電子結(jié)構(gòu)和晶體結(jié)構(gòu)發(fā)生變化，產(chǎn)生了宏觀物體所不具有的表面效應(yīng)、體積效應(yīng)、量子尺寸效應(yīng)和宏觀隧道效應(yīng)以及高透明度、高分散性等特點(diǎn)。近年來發(fā)現(xiàn)它在催化、光學(xué)、磁學(xué)、力學(xué)等方面展現(xiàn)出許多特殊功能，使其在陶瓷、化工、電子、光學(xué)、生物、醫(yī)藥等許多領(lǐng)域有重要的應(yīng)用價值，具有普通氧化鋅所無法比較的特殊性和用途。納米氧化鋅在紡織領(lǐng)域可用于紫外光遮蔽材料、抗菌劑、熒光材料、光催化材料等。由于納米氧化鋅一系列的優(yōu)異性和十分誘人的應(yīng)用前景，因此研發(fā)納米氧化鋅已成為許多科技人員關(guān)注的焦點(diǎn)。          

納米氧化鋅的分散難點(diǎn)：納米氧化鋅分散到水中或者溶劑當(dāng)中，容易出現(xiàn)抱團(tuán)的現(xiàn)象，導(dǎo)致物料粒徑變大，分散效果不佳，產(chǎn)品改性不充分。

如果使用普通的分散設(shè)備，很難將納米氧化鋅分散均勻，會出現(xiàn)團(tuán)聚的現(xiàn)象，團(tuán)聚體難以打開，而如果采用CIK研發(fā)的分散設(shè)備，研磨分散機(jī)的話，先研磨后分散機(jī)，解決團(tuán)聚問題，可達(dá)納米氧化鋅還原至納米級。

新型超高速納米氧化鋅研磨分散機(jī)，是由膠體磨+分散機(jī)結(jié)合而成的設(shè)備，主要是為了解決納米級物料的分散，如：納米碳酸鈣、納米*、納米氧化鋁、石墨烯、碳納米管等納米級物料的分散。

NKD2000系列研磨分散設(shè)備是CIK（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝，我們將三級變跟為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料，然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）

NKD2000系列超高速納米氧化鋅研磨分散機(jī)的特點(diǎn)：

①   線速度很高，剪切間隙非常小，當(dāng)物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨

②   定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

③   定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

④   在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

⑤   高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

新型超高速納米氧化鋅研磨分散機(jī)設(shè)備選型表