維意真空ALD/MO/CVD源瓶支持定制

源瓶（起泡器）用于固態(tài)、液態(tài)及氣態(tài)超純物料類的封裝，涉及微正壓、常壓、中低壓的危險化學品，所以對源瓶的安全性和潔凈度提出嚴苛的要求。

源瓶特點：

1、所有管件采用316L不銹鋼，內(nèi)部經(jīng)400目機械拋光和電化學拋光，

Ra≦0.25微米；

2、閥門有美國世偉洛克球閥和隔膜閥、日本富士金隔膜閥和韓國TK

隔膜閥供選擇；

3、密封墊片選用純銀鍍鎳墊片；

4、氦質(zhì)譜檢測泄漏率≦1.0*10^-10mbar L/s；

5、可盛裝化學品純度≧99.9995;

6、總殘余元素量≦50PPb；

7、墜落試驗，通過國家商檢部門檢測；

8、介質(zhì)，TMG\TEG\TMA\TMIN\DEE等；

9、可選擇氣動閥門或者實現(xiàn)在注入端子、輸出端子以及接口之間的

交叉清掃處理等；

10、可提供非標定做。

維意真空ALD/MO/CVD源瓶支持定制

北京維意真空技術應用有限責任公司，原名北京科立方真空技術應用有限公司，創(chuàng)立于2013年6月，主體經(jīng)營分為真空配件銷售、真空設備定制、淺藍納米科技三個部分，是北京從事真空產(chǎn)品設計、制造、銷售、維修、保養(yǎng)于一體的專業(yè)性的公司，公司擁有一支專業(yè)、優(yōu)秀的產(chǎn)品技術工程師和維修技術工程師，具有豐富的行業(yè)經(jīng)驗。

公司于2016年初至2017年末，陸續(xù)投入大量研發(fā)資金，針對等PE-CVD離子增強化學氣象沉積設備、ALD原子層沉積設備和高低溫真空探針臺、小型桌面磁控濺射鍍膜機和小型桌面熱蒸發(fā)鍍膜機設備，以及附屬配件（真空航插電極法蘭、光纖真空饋通法蘭、RJ45真空法蘭、K型熱電偶真空法蘭等）進行了系統(tǒng)、深入的研發(fā)、改進工作。竭盡所能滿足高校、研究所的教學、科研使用，同時減少相關進口設備，并力爭創(chuàng)造外匯，打出中國創(chuàng)造！  

我們的客戶遍布國內(nèi)各高校和研究院所、部分單位和電力試驗所、各級的材料、物理、化學、納米等研究領域?qū)嶒炇?/span>，期待您就是我們的下一位客戶、朋友！
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維意真空，為您服務，唯你成就是我們的宣傳口號！

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我們熱誠歡迎儀器制造商及科學工作者與我們聯(lián)系開展各層面的合作,打造成真空系統(tǒng)設備供應商。