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      HAG-2000基準(zhǔn)級(jí)光澤度儀

      參考價(jià)面議
      具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
      • 公司名稱杭州遠(yuǎn)方光電信息有限公司
      • 品       牌
      • 型       號(hào)
      • 所  在  地杭州市
      • 廠商性質(zhì)經(jīng)銷商
      • 更新時(shí)間2025/1/7 9:51:31
      • 訪問次數(shù)34
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      杭州遠(yuǎn)方光電信息有限公司創(chuàng)建于1993年7月,坐落在被譽(yù)為“天堂硅谷”的杭州之江國家*開發(fā)區(qū),占30000m2,是國家認(rèn)定的*,CMC計(jì)量許可證獲得企業(yè),*通過企業(yè),國家“雙軟”(軟件企業(yè)及軟件產(chǎn)品)認(rèn)證企業(yè),遠(yuǎn)方公司是業(yè)內(nèi)*同時(shí)獲得該四項(xiàng)認(rèn)證的企業(yè)。 遠(yuǎn)方公司EMC & 電子儀器事業(yè)部主要從事EMC測(cè)試儀器、電參數(shù)測(cè)試儀器、變頻電源等電子儀器的研究、開發(fā)、生產(chǎn)、銷售和技術(shù)服務(wù),是國內(nèi)較大的EMC測(cè)試儀器生產(chǎn)廠家。 產(chǎn)品已被7000余家企業(yè)及七十余家政府質(zhì)檢機(jī)構(gòu)應(yīng)用,銷往包括歐、美在內(nèi)的三十多個(gè)國家和地區(qū)。經(jīng)過*的產(chǎn)品研發(fā)和技術(shù)積累,吸收*進(jìn)EMC檢測(cè)技術(shù)和較早研發(fā)成果,成功研制了EMI和EMS兩大系列較為完整的檢測(cè)儀器,成為國內(nèi)*能夠同時(shí)提供EMI和EMS檢測(cè)儀器的供應(yīng)商,產(chǎn)品技術(shù)和檔次在國內(nèi)處于顯著的*地位。產(chǎn)品自推向市場(chǎng)以來,現(xiàn)已為包括松下、PHILIPS、SIEMENS、TCL、A4TECH、海爾、美的、科隆、長虹、華日、櫻花、士蘭微、華北電力大學(xué)、南昌大學(xué)、四川大學(xué)、美國ETL認(rèn)證實(shí)驗(yàn)室、江蘇省電子產(chǎn)品監(jiān)督檢驗(yàn)所、浙江省技術(shù)監(jiān)督檢測(cè)研究院、湖北*、中山質(zhì)檢所、東莞質(zhì)檢所等在內(nèi)的眾多家國內(nèi)外企業(yè)及科研質(zhì)檢機(jī)構(gòu)所采用。遠(yuǎn)方公司提供以下電磁抗擾度( EMS )測(cè)試儀器 EMS61000-2B 靜電放電發(fā)生器 EMS61000-2L 敏感型靜電放電發(fā)生器EMS61000-2H 靜電放電發(fā)生器 ESDD-2 靜電放電試驗(yàn)臺(tái)EMS61000-4A 智能型快速群脈沖發(fā)生器 (國家重點(diǎn)新產(chǎn)品獎(jiǎng))EMS61000-4B 快速群脈沖發(fā)生器 EFTN-2 三相五線群脈沖耦合/去耦網(wǎng)絡(luò) EFTC-2 群脈沖電容耦合夾 EMS61000-5B/EMS61000-5C 雷擊浪涌發(fā)生器 SGN-2 三相五線雷擊浪涌耦合/去耦網(wǎng)絡(luò) EMS61000-5D CCITT 雷擊浪涌發(fā)生器 EMS61000-8K 工頻磁場(chǎng)發(fā)生器 EMS61000-9B 脈沖磁場(chǎng)發(fā)生器(國內(nèi)*) EMS61000-11K 周波跌落發(fā)生器 EMS61000-12B 阻尼振蕩波發(fā)生器 EMS61000-12C 振鈴波發(fā)生器(國內(nèi)*)
      EMC,電磁兼容,信號(hào)源,群脈沖發(fā)生器,雷擊浪涌發(fā)生器,靜電發(fā)生器,工頻磁場(chǎng)發(fā)生器,脈沖磁場(chǎng)發(fā)生器,電參數(shù)測(cè)量儀,變頻電源
      主要特點(diǎn)
      HAG-2000基準(zhǔn)級(jí)光澤度儀 產(chǎn)品信息

      HAG-2000是實(shí)現(xiàn)基準(zhǔn)級(jí)光澤度和相對(duì)測(cè)量的科學(xué)級(jí)儀器,主要用于光澤度標(biāo)準(zhǔn)板檢定,光澤標(biāo)準(zhǔn)數(shù)據(jù)量值傳遞??删_測(cè)量20°、45°、60°、75°、85°的光澤度值,以及鏡面反射率分布曲線。測(cè)量方式避免了相對(duì)測(cè)量中因標(biāo)準(zhǔn)板和被測(cè)板鏡面反射率空間分布差異所導(dǎo)致的測(cè)量誤差,測(cè)量更加可靠,系統(tǒng)角度精度高、測(cè)量重復(fù)性好。

      主要特點(diǎn)

      光澤度測(cè)量不確定度U≤0.7,(k=3),滿足JJG 2069光澤度基準(zhǔn)要求;

      光澤度和相對(duì)測(cè)量可選;

      采用精密對(duì)準(zhǔn)裝置實(shí)現(xiàn)角度精確定位,角度精度高達(dá)0.01;

      探測(cè)器接收立體角符合ISO,ASTM,GB,TAPPI, JIS等國際標(biāo)準(zhǔn)的測(cè)量幾何要求,精確接收鏡面反射光;

      光源與探測(cè)器通過濾色片精確匹配CIE C光源和CIE光視效率函數(shù)V(λ);

      掃描各角度的反射率分布曲線,還可以比較標(biāo)準(zhǔn)和被測(cè)樣品的表面分布差異。


      關(guān)鍵詞:探測(cè)器
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