特長(zhǎng)
· 根據(jù)各種半導(dǎo)體研究開發(fā)的各種各樣的個(gè)別需求,從Si到SiC、GaN等超高溫/高溫?zé)崽幚硌b置
· 廣泛的可選擇溫度性能:400℃~1950℃
· 除了Insitu Cleaning之外,還通過獨(dú)自技術(shù)實(shí)現(xiàn)了超高純度的處理環(huán)境
· 通過獨(dú)自耐蝕/密封技術(shù),可對(duì)應(yīng)腐蝕性/毒性氣體的使用
· 高純度/高真空/高溫過程中也可對(duì)應(yīng)急速升降溫度
· 長(zhǎng)期以來對(duì)各種研究機(jī)構(gòu)、大學(xué)等提供豐富的實(shí)際成果
應(yīng)用程序
· 氧化(O2)
· Post Oxidation Anneal(N2O、NO)
· 退火(N2、Ar)
· 激活退火
· 其他