特長
·與以往的工藝溫度相比,通過開發(fā)可在高溫下運行的各單元驅(qū)動系統(tǒng)、真空輸送機器人,實現(xiàn)了穩(wěn)定的輸送系統(tǒng)。
·通過改進反應(yīng)室內(nèi)部結(jié)構(gòu)和供氣系統(tǒng),可獲得TEOS(SiO)膜的長期穩(wěn)定速率。2
·通過加熱反應(yīng)氣體路徑,可以將排除設(shè)備以氣體狀態(tài)排出,未使用管道陷阱時,可以抑制副產(chǎn)品附著在管道等上,縮短維護時間。
·可輕松進行成膜條件等基板個別管理。
用途
·低溫P-Si、α-Si TFT