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| 電源 | · 電壓： 220V AC, 50/60Hz, 單相 · 功率：1850 W |
| 長加熱型真空板 （頂部快速紅外加熱）（標準） | ·真空板采用鋁合金制作，平板上有微小孔洞，和吸附基底（底部不加熱） ·真空板尺寸: 600mm(L) x 300mm(W)． ·涂布區(qū)域: 250mm(W) x 530mm(L) ·頂部快速紅外快速加熱 ·加熱溫度: 120 oC, 加熱速率 1.2 oC/s. ·精密控溫系統(tǒng)，控溫精度：±1℃
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| 短加熱型真空板 （底部電阻加熱）（可選） | ·真空板采用鋁合金制作，平板上有微小孔洞，和吸附基底（底部不加熱） ·真空板尺寸: 400mm(L) x 250mm(W)． ·涂布區(qū)域: 200mm(W) x 300mm(L) ·加熱元件安裝在真空板底部，加熱溫度200℃. ·精密控溫系統(tǒng)，控溫精度：±1℃ ·由于加熱長度有限，對于低粘度和高蒸發(fā)點的漿料不適合用于此款設備
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| 卷對卷系統(tǒng) | ·一個小型的收放卷系統(tǒng)，寬度180mm ·電機轉速（控制器）范圍：1-41RPM ·24V 直流電機，可在Ar環(huán)境下使用 ·配有一個110-240VAC 轉24VDC電源適配器
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| 涂布刮刀 | ·一個混合制膜器，安裝有數(shù)顯千分調節(jié)頭，用于漿料涂 ·刮刀涂布：寬度180mm,涂布厚度20-200um ·擠壓涂布：寬度150mm,涂布厚度5-30um
·配有一個注射泵用于擠壓式涂布 |
| 真空泵（可選） | 可選一個真空泵，用于單片涂布時，吸附固定基底
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| 儀器尺寸 |
1550mm(L) x 430(W) x 620mm(H) 1230mm(L) x 750(W) x 600mm(H) |
| 凈重 | 40kg |
公司目前主要從事氧化物晶體（A-Z）系列材料研發(fā)生產、濺射靶材制備和材料實驗室及電池研發(fā)全套設備。公司從成立之初研發(fā)高溫超導薄膜基片大尺寸LaAlO3單晶做起，目前MgAlO4、NdGaO3、LSAT、3英寸LaAlO3等晶體是世界唯yi供應商。設備研發(fā)的各種高溫爐，大尺寸高溫高壓爐，熱等靜壓爐，單晶生長爐等，用于石墨烯、高通量、蒸發(fā)鍍膜、高溫超導薄膜、超導塊材和線材的制備設備，涉及新能源材料，電池制備等成套設備，并為科研工作者提供材料研究解決方案，已經(jīng)成為企業(yè)。
儀器儀表
120℃多功能涂布機 (可單片涂布&卷對卷涂布,擠壓/刮刀涂布) 產品信息
