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      硒化鋅分光鏡Zinc Selenide Beamsplitters

      參考價面議
      具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
      • 公司名稱筱曉(上海)光子技術(shù)有限公司
      • 品       牌
      • 型       號
      • 所  在  地上海市
      • 廠商性質(zhì)其他
      • 更新時間2024/6/7 10:22:55
      • 訪問次數(shù)77
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      公司簡介筱曉(上海)光子技術(shù)有限公司是一家業(yè)的光學(xué)服務(wù)公司,業(yè)務(wù)涵蓋設(shè)備代理以及項(xiàng)目合作研發(fā),公司位于上海CBD商圈繁華地段,擁有600多m2的辦公區(qū)域,建有的AOL(Advanced Optical Labs)光學(xué)實(shí)驗(yàn)室,為國內(nèi)外客戶提供業(yè)技術(shù)支持服務(wù)。公司主要經(jīng)營光學(xué)元件、激光光學(xué)測試設(shè)備、以及光學(xué)系統(tǒng)集成業(yè)務(wù)。總部坐落于魔都上海,并在北京、香港、溫哥華設(shè)立分公司。依托業(yè)、強(qiáng)大的技術(shù)支持,以及良好的商務(wù)支持團(tuán)隊(duì),筱曉的業(yè)務(wù)范圍正在逐年增長。目業(yè)務(wù)覆蓋國內(nèi)外各高校、頂科研機(jī)構(gòu)及相關(guān)域等諸多企事業(yè)單位。筱曉擁有一支核心的管理團(tuán)隊(duì)以及業(yè)的研發(fā)實(shí)驗(yàn)室,奠定了我們在設(shè)備的拓展應(yīng)用及自主研發(fā)域堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ)。公司自成立以來,始終遵循行業(yè)先、誠信發(fā)展、探索創(chuàng)新、務(wù)實(shí)致遠(yuǎn)、以質(zhì)取勝的服務(wù)理念,并在產(chǎn)品開發(fā)和銷售中貫徹到底。公司自始至終秉承著標(biāo)準(zhǔn)的質(zhì)量安全保障。。我們將不斷完善管理機(jī)制和技術(shù)水平,為客戶提供更安全環(huán)保的產(chǎn)品以及更優(yōu)質(zhì)的服務(wù)。主要經(jīng)營激光器/光源半導(dǎo)體激光器(DFB激光器、SLD激光器、量子聯(lián)激光器、FP激光器、VCSEL激光器)氣體激光器(HENE激光器、氬離子激光器、氦鎘激光器)光纖激光器(連續(xù)激光器、超短脈沖激光器)光學(xué)元件光纖光柵濾波器、光纖放大器、光學(xué)晶體、光纖隔離器/環(huán)形器、脈沖驅(qū)動板、光纖耦合器、氣體吸收池、光纖準(zhǔn)直器、光接收組件、激光控制驅(qū)動器等各種無源器件激光分析設(shè)備高精度光譜分析儀、自相關(guān)儀、偏振分析儀,激光波長計(jì)、紅外相機(jī)、光束質(zhì)量分析儀、紅外觀察鏡等光纖處理設(shè)備光纖拉錐機(jī)、裸光纖研磨機(jī)光學(xué)實(shí)驗(yàn)室近紅外實(shí)驗(yàn)項(xiàng)目組:半導(dǎo)體激光器光譜分析,功率測試,光束質(zhì)量測試,線寬測試,各種光無源器件的測試,光纖放大器等等近紅外產(chǎn)品的測試。目我們在半導(dǎo)體測試,TDLAS激光法氣體分析檢測,DTS高溫傳感等項(xiàng)目研究開發(fā)域有著深厚的積累,能夠?yàn)榭蛻籼峁└泳珳?zhǔn)的器件方案支持。中紅外實(shí)驗(yàn)項(xiàng)目組:負(fù)責(zé)公司中紅外波段的相關(guān)產(chǎn)品。其中包括:中紅外激光半導(dǎo)體器件測試,中紅外QCL激光器的性能研發(fā)改進(jìn),中紅外技術(shù)學(xué)習(xí)與推廣應(yīng)用,目我們已成熟具備QCL激光器對TDLAS氣體測量技術(shù),并提供整套系統(tǒng)器件,還具有的光譜儀AQ6377、波長計(jì)等測量設(shè)備,可以為客戶提供實(shí)驗(yàn)服務(wù),解答各類中紅外產(chǎn)品售后問題。超快太赫茲微納實(shí)驗(yàn)項(xiàng)目:承擔(dān)超快、太赫茲及微納交叉應(yīng)用,整合相關(guān)技術(shù)到安全測試、生物傳感等新型應(yīng)用域。太赫茲設(shè)備正在積籌備中,依托超快激光器研發(fā)能力,擁有健全的核心元器件供應(yīng)鏈;具備微納光纖生產(chǎn)制備測試能力其產(chǎn)品可廣泛用于生物、溫度、壓力、氣體傳感等域。
      干涉儀
      ZnSe在紅外元器件窗片透鏡以及光譜分析ATR棱鏡領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用
      硒化鋅分光鏡Zinc Selenide Beamsplitters 產(chǎn)品信息
       ZnSe 在紅外元器件窗片透鏡以及光譜分析ATR 棱鏡領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。硒化鋅(Zinc Selenide)對于CO2激光器的元器件也是一種良好的選擇。在二氧化碳激光器工作的波段10.6 microns附近有著良好的透射率。硒化鋅材料是一種黃色透明的多晶材料, 結(jié)晶顆粒大小約為70μm, 透光范圍0.5-15μm。由化學(xué)氣相沉積(CVD)方法合成的基本不存在雜質(zhì)吸收, 散射損失極低。由于對10.6μm波長光的吸收很小, 因此成為制作高功率CO2激光器系統(tǒng)中光學(xué)器件的材料。 此外在其整個透光波段內(nèi), 也是在不同光學(xué)系統(tǒng)中所普遍使用的材料。

      硒化鋅材料對熱沖擊具有很高的承受能力, 使它成為高功率CO2激光器系統(tǒng)中的*佳光學(xué)材料。硬度只是多光譜級ZnS2/3, 材質(zhì)較軟易產(chǎn)生劃痕, 而且材料折射率較大, 所以需要在其表面鍍制高硬度減反射膜來加以保護(hù)并獲得較高的透過率。在其常用光譜范圍內(nèi), 散射很低。在用做高功率激光器件時, 需要嚴(yán)格控制材料的體吸收和內(nèi)部結(jié)構(gòu)缺陷, 并采用*小破壞程度的拋光技術(shù)和光學(xué)質(zhì)量的鍍膜工藝。

       

      廣泛應(yīng)用于激光,醫(yī)學(xué),天文學(xué)和紅外夜視等領(lǐng)域中。

      訂購型號:MPZNSEBS50.8-50.8

      參數(shù):

      IR Polished Zinc Selenide (ZnSe) beamsplitter

      50.8 x 50.8 x 3mm 45° beamsplitter.

      50% transmission / 50% reflection @45° for 2-14µm

       

      參數(shù)詳細(xì)信息:

      透射波段范圍 :

      0.6 to 21.0 um

      折射率:

      2.4028 at 10.6 um

      反射損耗:

      29.1% at 10.6 um (2 surfaces)

      吸收系數(shù):

      0.0005 cm-1at 10.6 um

      吸收峰:

      45.7 um

      dn/dT :

          +61 x 10-6/ at 10.6 um at 298K

      dn/du = 0 :

      5.5 um

      密度:

      5.27 g/cc

      熔點(diǎn):

      1525 (see notes below)

      導(dǎo)熱系數(shù):

      18 W m-1 K-1at 298K

      熱膨脹:

      7.1 x 10-6/at 273K

      硬度 :

      Knoop 120 with 50g indenter

      比熱容量 :

      339 J Kg-1聽K-1

      Dielectric Constant :

      n/a

      Youngs Modulus (E) :

      67.2 GPa

      Shear Modulus (G) :

      n/a

      Bulk Modulus (K) :

      40 GPa

      彈性系數(shù) :

      Not Available

      Apparent Elastic Limit :

      55.1 MPa (8000 psi)

      泊松比 :

      0.28

      Solubility :

      0.001g/100g water

      Molecular Weight :

      144.33

      Class/Structure :

      HIP polycrystalline cubic, ZnS, F43m

      No = Ordinary Ray

      µm   

      No

      µm   

      No

      µm   

      No

      0.54   

      2.6754

      0.58   

      2.6312

      0.62   

      2.5994

      0.66   

      2.5755

      0.7   

      2.5568

      0.74   

      2.5418

      0.78   

      2.5295

      0.82   

      2.5193

      0.86   

      2.5107

      0.90   

      2.5034

      0.94   

      2.4971

      0.98   

      2.4916

      1.0   

      2.4892

      1.4   

      2.4609

      1.8   

      2.4496

      2.2   

      2.4437

      2.6   

      2.4401

      3.0   

      2.4376

      3.4   

      2.4356

      3.8   

      2.4339

      4.2   

      2.4324

      4.6   

      2.4309

      5.0   

      2.4295

      5.4   

      2.4281

      5.8   

      2.4266

      6.2   

      2.4251

      6.6   

      2.4235

      7.0   

      2.4218

      7.4   

      2.4201

      7.8   

      2.4183

      8.2   

      2.4163

      8.6   

      2.4143

      9.0   

      2.4122

      9.4   

      2.4100

      9.8   

      2.4077

      10.2   

      2.4053

      10.6   

      2.4028

      11.0   

      2.4001

      11.4   

      2.3974

      11.8   

      2.3945

      12.2   

      2.3915

      12.6   

      2.3883

      13.0   

      2.3850

      13.4   

      2.3816

      13.8   

      2.3781

      14.2   

      2.3744

      14.6   

      2.3705

      15.0   

      2.3665

      15.4   

      2.3623

      15.8   

      2.3579

      16.2   

      2.3534

      16.6   

      2.3487

      17.0   

      2.3438

      17.4   

      2.3387

      17.8   

      2.3333

      18.2   

      2.3278

       



       

      關(guān)于晶體切割:

      During Chemical Vapour Deposition the small crystallite grains align with the direction of growth, and are

      normal to the thickness of the sheet produced. For windows of normal thickness and aspect ratios the alignment of the grain therefore is rarely a problem as they are cut from the grown sheet such that within an optical window the grains align perpendicular to the surfaces. This is optimum orientation for lowest internal absorption and scatter.

      With prisms, the cutting direction requires more consideration. It is recommended that the thickness of the strip material corresponds to the apex height of the prism. This ensures optimum crystallite orientation for most usual

      prism applications.

      For typical 45° prisms the most obvious use of material is shown in (A) but it

      should be noted that this is not the optimum orientation.

       

      The best choice is (B) and it also permits a higher limit on prism size or conversely allows thinner stock to be used. There is waste at the ends of the strip but this is small and so it may not be quite as economic as (A).

       

      Cutting in direction (C) where the entire light beam runs at 90° to the grain

      structure should be avoided completely if at all possible. Note that maximum available thickness of ZnSe and ZnS (FLIR) is approximately 60mm. Maximum available thickness of ZnS Cleartran is approximately 30mm



      更新時間:2023/5/24 17:35:17

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