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      Quantera II 掃描XPS探針

      參考價面議
      具體成交價以合同協(xié)議為準
      • 公司名稱上海德竹芯源科技有限公司
      • 品       牌
      • 型       號QuanteraII
      • 所  在  地上海
      • 廠商性質(zhì)其他
      • 更新時間2024/5/15 9:02:26
      • 訪問次數(shù)90
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      上海德竹芯源科技有限公司是一家專注于功率器件、光電器件、射頻器件、量子器件、MEMS傳感器領(lǐng)域的設(shè)備銷售、系統(tǒng)集成、設(shè)備國產(chǎn)化的公司。主要為高校、研究所、中試量產(chǎn)線及晶圓FAB廠提供半導(dǎo)體工藝設(shè)備、檢測設(shè)備、封裝設(shè)備、測試設(shè)備。目前公司已成為國內(nèi)少數(shù)幾家專業(yè)提供半導(dǎo)體工藝、檢測、封裝、測試整體解決方案的企業(yè)。公司主要成員為復(fù)旦大學(xué)、上海微系統(tǒng)所等半導(dǎo)體相關(guān)專業(yè)博士,擁有一支經(jīng)驗豐富、技術(shù)過硬的團隊。能夠出色地完成售前售中、售后的服務(wù)。目前公司已與眾多國際半導(dǎo)體設(shè)備企業(yè)建立了良好的合作關(guān)系(如:EVG、SAWNATEC、SENTECH、PICOSUN、SYSKEY、 Mavemn Panalyrical、PHL-CHINA、TEMPRESS,ROHDE&SCHWARZ、MPI等),致力于根據(jù)用戶的科研方向和量產(chǎn)的器件類別提供相應(yīng)的全套設(shè)備選型和工藝整體解決方案。
      無線電綜合測試儀
      PHI Quantera II 掃描XPS探針是 ULVAC-PHI 公司新研發(fā)的XPS分析儀器,是在 Quantum 2000 和 Quantera SXM 的基礎(chǔ)上延伸出來的,其革命性技術(shù)包括有:聚焦掃描X射線源,的雙束中和技術(shù),在非常低的電壓下仍可保持高性能的離子束源以進行XPS的深度分析,一個精密的五軸樣品臺和負責全自動樣品傳送的機械手臂,以及一個自動化且可支持互聯(lián)網(wǎng)遠程控制的儀器......
      Quantera II 掃描XPS探針 產(chǎn)品信息

      優(yōu)點

      操作簡單

      無論您是在分析一個薄膜樣品、有機聚合物、一個大的塑料鏡片、不銹鋼刀片或焊錫球等,儀器所有的設(shè)置和設(shè)定都是相同的。操作者只需用鼠標在樣品的光學(xué)圖像上單擊選擇一個或多個分析區(qū)域,打開儀器的雙光束中和系統(tǒng)和自動Z-軸高度調(diào)整功能,就可通過儀器軟件的自動隊列(Add Q)執(zhí)行所有分析。整個操作流程不需要任何的設(shè)定調(diào)整,不用因樣品成分不一致而有任何顧慮,甚至也不需要有操作員整天待在儀器旁邊,一切的操作都可自動完成。




      圖1 - 全自動無人值守,分析無憂的XPS Quantera II


      薄膜分析

      Quantera II 不僅提供了無機薄膜樣品良好的深度剖面分析性能,而且也可利用 C60 離子槍對有機薄膜得出非常*的深度分析結(jié)果。



      圖2 - (左) 以2 keV 氬離子濺射源對一個半導(dǎo)體封裝的錫球表面進行深度分析;

      (右) 使用10 keV C60離子源,對50/50 Rapamycin和PLGA的薄膜進行深度分析。


      掃描 XPS探針

      PHI Quantera II 使用了聚焦掃描X射線源,使XPS微區(qū)分析變得更高效。如圖4所示,X射線源是經(jīng)由聚焦電子光柵掃描并撞擊在鋁陽極上所產(chǎn)生的,由此產(chǎn)生的聚焦鋁X射線會再透過橢球形狀的單色器反射在樣品表面上。當電子束掃描在鋁陽極上時,所產(chǎn)生的X射線束在樣品上也會作出同步的掃描。X射線束的直徑大小可調(diào)范圍為 7.5 微米以下到 400 微米以上。



      圖3 - (a) PHI 的聚焦掃描X射線源說明。(b) 使用Quantera II 對MRS-3標樣所生的二次電子像,可見

      以Quantera II 可以分析到約直徑為6微米區(qū)域的功能。


      微區(qū)光譜

      以下圖5中聚合物表面異物樣品為例。在光學(xué)顯微鏡下,透明的聚合物薄膜表面上未發(fā)現(xiàn)有任何污染物。而使用二次電子影像時就立即顯示了聚合物表面上污染物的存在。在短短幾分鐘內(nèi),Quantera II 儀器就可利用一個直徑為 20 微米的X射線束對污染物成分進行分析,從而確定為氟碳污染物。



      圖4 - Quantera II的污染分析。(a) 二次電子成像。(b) 多點采譜分析。(c) 碳 1s的圖譜。 (d) 元素分布圖(留意分布中右邊較小點的污染不含有氟或碳)。 (e) 對較小的污染做點分析,使用7.5微米的X射線束確定了第二污染物含有鋅的存在。


      特點

      X射線探針 ≤ 5 微米的空間分辨率

      高靈敏度的靜電檢測光學(xué)系統(tǒng)

      雙束中和系統(tǒng)

      自動化的樣品傳輸處理

      儀器可容納樣品直徑為 100 毫米,高度為 25 毫米

      兩個內(nèi)部樣品平臺暫停區(qū)

      高性能的離子槍

      高速的深度分析

      元素態(tài)或化學(xué)態(tài)的XPS成像

      自動角分辨分析

      PHI MultiPak 數(shù)據(jù)處理軟件


      可選配件

      樣品定位系統(tǒng) (SPS)

      熱/冷樣品臺

      冷樣品引入裝置

      樣品傳輸管和外部測試站

      C60 離子槍

      Ar2500 GCIB 離子槍


      應(yīng)用范圍

      化學(xué):化學(xué)涂料,聚合物,催化劑

      材質(zhì):金屬,薄膜,納米材料

      電子:半導(dǎo)體,磁盤,微電子技術(shù)和顯示技術(shù)

      生物醫(yī)學(xué)與生物醫(yī)學(xué)設(shè)備


      關(guān)鍵詞:光學(xué)顯微鏡
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