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      產(chǎn)品|公司|采購|資訊
      
 
      
        	
            
        
      
			
      
	
      
	
      

		
      
		 	
		 
      
		
      
				
			
      
				
      UTA系列顯微鏡 LED 曝光單元
      
							    
				
      
								
      
					
      
														
      參考價面議
      
												
      
					
      具體成交價以合同協(xié)議為準
      
				
      
				                  
      
								
      
					
        
						
      • 公司名稱上海德竹芯源科技有限公司
						           
           
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      • 品       牌
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      • 型       號UTA-1A(3A)
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      • 所  在  地上海
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      • 廠商性質(zhì)其他
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      • 更新時間2024/5/15 8:54:57
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      • 訪問次數(shù)147
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					產(chǎn)品標簽:
										
      
					
				
      
								
      
					在線詢價收藏產(chǎn)品
					
					 					 
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      聯(lián)系我們時請說明是 智能制造網(wǎng) 上看到的信息，謝謝!
      
				
      
					
			
      
			
      
		
      
  
		
      
			
      
				
				
      
				
      
					上海德竹芯源科技有限公司是一家專注于功率器件、光電器件、射頻器件、量子器件、MEMS傳感器領(lǐng)域的設(shè)備銷售、系統(tǒng)集成、設(shè)備國產(chǎn)化的公司。主要為高校、研究所、中試量產(chǎn)線及晶圓FAB廠提供半導體工藝設(shè)備、檢測設(shè)備、封裝設(shè)備、測試設(shè)備。目前公司已成為國內(nèi)少數(shù)幾家專業(yè)提供半導體工藝、檢測、封裝、測試整體解決方案的企業(yè)。公司主要成員為復旦大學、上海微系統(tǒng)所等半導體相關(guān)專業(yè)博士，擁有一支經(jīng)驗豐富、技術(shù)過硬的團隊。能夠出色地完成售前售中、售后的服務(wù)。目前公司已與眾多國際半導體設(shè)備企業(yè)建立了良好的合作關(guān)系(如:EVG、SAWNATEC、SENTECH、PICOSUN、SYSKEY、 Mavemn Panalyrical、PHL-CHINA、TEMPRESS,ROHDE&SCHWARZ、MPI等)，致力于根據(jù)用戶的科研方向和量產(chǎn)的器件類別提供相應(yīng)的全套設(shè)備選型和工藝整體解決方案。
				
      
				
				
      
				
				
      
					無線電綜合測試儀
				
      
							   			
							
				
      
				
      
			        
      
    	             			        
      
				
      
				
      
  				 
					顯微鏡 LED 曝光單元 UTA 系列是用于光刻的無掩模圖案投影曝光設(shè)備。
				
      
				
      
				
      
                
                
                
                
      
				
      
				
      
					
      
						UTA系列顯微鏡 LED 曝光單元 產(chǎn)品信息
					
      
					
      
						                       
                               
                                   
      顯微鏡 LED 曝光單元 UTA 系列是用于光刻的無掩模圖案投影曝光設(shè)備。
      使用金屬顯微鏡和 LED 光源 DLP 投影儀，將分辨率為幾 μm 的任意圖案投影到涂有光刻膠的基板上進行曝光。您可以在計算機上自由創(chuàng)建圖案。
      另外，可以保存創(chuàng)建的圖案。
      與電子束光刻相比，它更便宜、更容易，因為可以在空氣中在各種大小和形狀的分層材料單晶薄片上形成電極。不需要制造昂貴的電極圖案掩模。

      用途
           ● 薄膜 FET 的電極形成和空穴效應(yīng)測量樣品
            ● 從原石的石墨烯鉬中取出剝離的（?。┢糜谠u估石特性的電極形成
            ● 用于研發(fā)應(yīng)用的圖案形成

      特征
           ● 因為它是顯微鏡和 DLP 的組合相比現(xiàn)有系統(tǒng)更便宜的一種曝光設(shè)備
           ● 易于使用的專用軟件，可讓您輕松創(chuàng)建圖案
           ● 通過物鏡倍率，可以從精細圖案到進行大范圍的批量曝光
           ● 可以安裝到您自己的顯微鏡上（取決于顯微鏡的規(guī)格）
           ● 分辨率為幾微米的圖案成型也是可能的
       
         ● 曝光范圍：物鏡 5X：約 1.16×0.72mm /  物鏡 100X：約 60×35μｍ    ※曝光范圍僅供參考

      ☆曝光前可以進行測試投影（因為是紅光，不會感光）



      ☆用白光曝光（曝光時間可以設(shè)置）

                               
                             
                             
                               
                                                            
                             
                             
					
      

										
      關(guān)鍵詞：顯微鏡 投影儀 
      
									
      
			
      
			
			
      
		
      
						
      
			
      
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