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      MiniLab-30S PVD 薄膜沉積系統(tǒng)

      參考價面議
      具體成交價以合同協(xié)議為準
      • 公司名稱杭州大華儀器制造有限公司
      • 品       牌
      • 型       號
      • 所  在  地杭州市
      • 廠商性質(zhì)其他
      • 更新時間2024/4/26 19:57:04
      • 訪問次數(shù)152
      產(chǎn)品標簽:

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      杭州大華儀器制造有限公司坐落于杭州市富陽區(qū)美麗的富春江畔、《富春山居圖》 的實景地、誕生地、經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)-----東洲工業(yè)功能區(qū)內(nèi),處在國家黃金旅游線”錢塘江- 富春江千島湖-黃山”的中心位置。公司始創(chuàng)于1993年,廠區(qū)建筑面積35000多平方米,是一家倡導服務,集科研、生產(chǎn)、銷售于-體的國家重點扶持企業(yè)。二十多年來-直致力于大學物理實驗教學儀器、科研儀器設備的研發(fā)生產(chǎn)和銷售,形成了以8大系列400余種專業(yè)物理實驗儀器設備為主,電工儀器為輔,配套設備為支撐的產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)。2010年,公司研發(fā)中心被評為以“科教儀器為主要研究方向”的省級企業(yè)研發(fā)中心,2016年被杭州授予“杭州市院士工作站”。2017年,被省委認定為“省級院士工作站”。公司以“科技締造未來”為企業(yè)理念,重視科技創(chuàng)新和產(chǎn)學研合作、重視人才的引進與培養(yǎng),2000年以來與中科院固體物理研究所、清華大學、浙江大學、華中科技大學、四川大學、天津師范大學、西安交通大學、西北工業(yè)大學、武漢工程大學等20多家高等院校和科研院所建立了穩(wěn)定的產(chǎn)學研合作關系、大學生實踐基地,在功能材料科教儀器設備及測試技術(shù)、等離子體技術(shù)應用、大學物理設計創(chuàng)新、新能源產(chǎn)業(yè)等領域開展了廣泛的科技創(chuàng)新合作。公司累計獲得國家100余項,在全國高校物理實驗儀器評比中,共獲得四項-等獎,十二項二等獎,十五項三等獎的榮譽。并相繼獲得了“ 全國名優(yōu)產(chǎn)品售后服務*單位”、“ 中國質(zhì)量信用AA單位”、“ 浙江省示范企業(yè)”、“ 浙江省民營經(jīng)濟示范企業(yè)”、、“杭州” 等榮譽稱號,連續(xù)多年列入“中國高教儀器設備發(fā)展情況年度報告”設備選購推薦企業(yè)之一, 國歡迎的實驗室儀器設備企業(yè)之一。以“用戶至上,服務滿意,質(zhì)量為本,科學管理”為企業(yè)宗旨, 嚴格執(zhí)行"IS09001: 2015國際質(zhì)量管理體系” 的標準,導入3Q6S精細化管理模式,注重- -切流程以用戶滿意為標準, 精益求精,持續(xù)提高產(chǎn)品的品質(zhì)。我們的服務和產(chǎn)品現(xiàn)已遍布國內(nèi)外兩千余所大專院校、科研院所和工業(yè)企業(yè),并出口美國、法國、東南亞、中東、古巴等國家和地區(qū)。
      實驗裝置
      應用領域:該系統(tǒng)可用于開發(fā)納米級的單層及多層功能膜和復合膜,可鍍金屬、合金、化合物、半導體、陶瓷膜、介質(zhì)復合膜和其它化學反應膜等
      MiniLab-30S PVD 薄膜沉積系統(tǒng) 產(chǎn)品信息

      應用領域:

      該系統(tǒng)可用于開發(fā)納米級的單層及多層功能膜和復合膜 , 可鍍金屬、合金、化合物、半導體、陶瓷膜、介質(zhì)復合膜和其它化學 反應膜等。

                        MiniLab 30 PVD 薄膜沉積系統(tǒng)(磁控濺射).jpg

      螺紋孔基片盤:樣品托.jpg

      基本配置:

      ◆真空腔室:350×400mm 不銹鋼 D 形腔體。前門鉸鏈方便真空室清理;腔室底板,頂部和側(cè)面裝有腔室內(nèi)硬件接口;前 門上配直徑 80 玻璃觀察窗(含手動防污染擋板、可拆洗防污玻璃);腔體可選擇水冷。 

      ◆抽氣系統(tǒng): 采用復合分子泵 + 直聯(lián)旋片泵作為真空抽氣系統(tǒng); 主抽泵:分子泵抽速≥ 600L/S,氮氣壓縮比≥ 109 ; 前級泵:VRD-24 機械泵及電磁閥,抽速:6L/S 主抽閥: CCD-150 超高真空電動插板閥 

       * 真空系統(tǒng)可以升級為進口分子泵和渦旋干泵。 

      ◆真空測量:數(shù)顯復合真空計: “兩低一高”全量程數(shù)顯復合真空計; 

      * 真空測量可以升級為進口全量程冷陰極真空計 

      ◆極限真空:<5×10-5Pa ◆恢復真空:<6.7×10-4Pa(< 45 min) 

      ◆磁控濺射靶:(最多安裝三個磁控濺射靶)磁控濺射靶磁路模塊化設計;磁控靶可手動調(diào)節(jié)濺射角度,靶與基片的距離可調(diào); 其中一個靶位可濺射磁性材料(如鎳或鐵等)靶材大小為直徑 50.8mm,建議厚度≤ 5mm,靶材利用率超過 40%; 

      ◆鍍膜方式:由下往上濺鍍或從上往下濺射,可依需求采用 Confocal(共焦)或 Face-to-Face(面對面); 

      ◆濺射電源: 射頻電源:功率 300W,輸出頻率:13.56MHz,全自動匹配 數(shù)量:1 臺 直流電源:輸出功率:500W;輸出電壓:0 ~ -800V 可調(diào) 數(shù)量:1 臺 

      ◆工藝氣路(可選):三路質(zhì)量流量計控制的氣路(Ar、O2、N2 )等 

      ◆樣品臺:可容納樣品尺寸:4 英寸樣品托一個 , 配擋板,轉(zhuǎn)速 0-30rpm 連續(xù)可調(diào) ; 樣品可加熱控溫, 溫度范圍:室溫 -600℃,控溫精度 ±0.5℃; ◆系統(tǒng)控制:15 英寸觸摸屏 +PLC 控制(可選手動按鈕)

      選擇配置:

      ◆樣品臺可水冷,采用直接式水冷形式,水冷不控溫 

      ◆可選進口濺射電源 

      ◆磁控靶可選用歐美品牌 

      ◆全量程真空計 (Inficon) 

      ◆電容式隔膜真空計 ( 測量濺射工作壓力 ) 

      ◆樣品托 : 不銹鋼、鋁或銅,基片盤上有螺紋孔。

      系統(tǒng)要求標準配置:

      ◆工藝氣體 :25psi,純度 99.99% 以上 

      ◆工作氣體 : 干燥壓縮空氣、氮氣 

      ◆電 源 : 單相 220V, 50Hz, 32A 

      ◆冷 凍 水 :18-25℃ , 3L/min,壓力 <0.4MPa

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