手持式光譜儀產(chǎn)品詳細(xì)資料介紹，手持式光譜分析儀技術(shù)參數(shù)和性能配置由蘇州實(shí)譜信息科技有限公司提供手持式光譜儀報(bào)價(jià)和操作說(shuō)明。按照不同的行業(yè)和測(cè)試物質(zhì)，可分為手持式合金分析儀XRF5000，手持式礦石分析儀XRF7000，XRF8000，手持式土壤重金屬分析儀XRF9000，手持式ROHS有害元素分析儀XRF3000。利用新一代半導(dǎo)體檢測(cè)器提高測(cè)試速度和分析精度，手持式光譜儀的應(yīng)用已經(jīng)越來(lái)越廣泛。
手持式分析儀 探測(cè)器：13mm2 電致冷Si-PIN探測(cè)器 激發(fā)源：40KV/50uA-銀端窗一體化微型X光管 檢測(cè)時(shí)間：10-200秒（可手持式或座立式測(cè)試） 檢測(cè)對(duì)象：固體、液體、粉末 檢測(cè)范圍：硫(S)到鈾(U)之間所有元素 可同時(shí)分析元素：多至26個(gè)元素 元素檢出限：0.001%～0.01% 校正方式： 銀(Ag) 性：自帶模式，非人員無(wú)法使用 Data使用性：可在PDA內(nèi)進(jìn)行編輯，可導(dǎo)入PC機(jī)進(jìn)行 保存打印，配備海量存儲(chǔ)卡 電 源： 兩塊鋰電池滿電可連續(xù)工作8小時(shí)

在購(gòu)買便攜式光譜儀的時(shí)候到底要注意哪些問(wèn)題呢？
 1、穩(wěn)定性：分析儀器重要的是穩(wěn)定性,在每次分析前都要進(jìn)標(biāo)樣,所以檢測(cè)結(jié)果一般與真值偏差都不打,關(guān)鍵是同類樣品是否在每次分析出來(lái)之后結(jié)果是否一致,如果忽高忽低你知道那個(gè)樣品是合格的 2、分析速度：如果是掃描型的,速度要快 3、波長(zhǎng)范圍：是否能覆蓋你所要檢測(cè)所有元素的譜線范圍 4、光學(xué)分辨率：理論上來(lái)說(shuō)分辨率越高越好,當(dāng)然還看你的樣品情況 5、故障率：這個(gè)不用多說(shuō)，故障率自然越低越好6、售后服務(wù)：機(jī)器用久了都會(huì)出現(xiàn)各種問(wèn)題，售后服務(wù)的好壞也很重要。

手持式光譜儀器具有小巧便攜、操作快捷,體積很小，便攜、方便野外工作，隨時(shí)隨地，隨心所欲的現(xiàn)場(chǎng)分析和原位分析，設(shè)備無(wú)需預(yù)熱，可直接測(cè)試。 手持式xrf熒光光譜儀的特點(diǎn)是無(wú)損、檢測(cè).手持合金測(cè)試儀既可手持1-2秒對(duì)樣品進(jìn)行測(cè)試，也能使用座式對(duì)樣品進(jìn)行較長(zhǎng)時(shí)間的精細(xì)測(cè)試，10秒即可進(jìn)行接近實(shí)驗(yàn)室精度的測(cè)量，整個(gè)檢測(cè)過(guò)程被測(cè)樣品無(wú)任何損壞。高清攝像頭檢測(cè)更加 內(nèi)置500萬(wàn)高清晰攝像頭，可以隨時(shí)觀察被測(cè)樣品的測(cè)試位置。

手持式光譜儀是一種基于XRF光譜分析技術(shù)的光譜分析儀器，當(dāng)能量高于原子內(nèi)層電子結(jié)合能的高能X射線與原子發(fā)生碰撞時(shí),驅(qū)逐一個(gè)內(nèi)層電子從而出現(xiàn)一個(gè)空穴,使整個(gè)原子體系處于不穩(wěn)定的狀態(tài),當(dāng)較外層的電子躍遷到空穴時(shí),產(chǎn)生一次光電子，擊出的光子可能再次被吸收而逐出較外層的另一個(gè)次級(jí)光電子，發(fā)生俄歇效應(yīng),亦稱次級(jí)光電效應(yīng)或無(wú)效應(yīng)。所逐出的次級(jí)光電子稱為俄歇電子。當(dāng)較外層的電子躍入內(nèi)層空穴所釋放的能量不被原子內(nèi)吸收,而是以光子形式放出,便產(chǎn)生X 射線熒光，其能量等于兩能級(jí)之間的能量差。因此，射線熒光的能量或波長(zhǎng)是特征性的,與元素有一一對(duì)應(yīng)的關(guān)系。由Moseley定律可知，只要測(cè)出熒光X射線的波長(zhǎng),可以知道元素的種類,這是熒光X射線定性分析的基礎(chǔ)。此外,熒光X射線的強(qiáng)度與相應(yīng)元素的含量有一定的關(guān)系,據(jù)此,可以進(jìn)行元素定量分析。X射線探測(cè)器將樣品元素的X射線的特征譜線的光信號(hào)轉(zhuǎn)換成易于測(cè)量的電信號(hào)來(lái)得到待測(cè)元素的特息。
手持式光譜儀系統(tǒng)誤差的來(lái)源有： (1)標(biāo)樣和試樣中的含量和化學(xué)組成不相同時(shí)，可能引起基體線和分析線的強(qiáng)度改變，從而引入誤差。 (2)標(biāo)樣和試樣的物理性能不相同時(shí)，激發(fā)的特征譜線會(huì)有差別從而產(chǎn)生系統(tǒng)誤差。 (3)澆注狀態(tài)的鋼樣與經(jīng)過(guò)退火、淬火、回火、熱軋、鍛壓狀態(tài)的鋼樣金屬組織結(jié)構(gòu)不相同時(shí)，測(cè)出的數(shù)據(jù)會(huì)有所差別。 (4)未知元素譜線的重疊干擾。如熔煉過(guò)程中加入脫氧劑、除硫磷劑時(shí)，混入未知合金元素而引入系統(tǒng)誤差。 (5)要系統(tǒng)誤差，必須嚴(yán)格按照標(biāo)準(zhǔn)樣品制備規(guī)定要求。為了檢查系統(tǒng)誤差，需要采用化學(xué)分析方法分析多次校對(duì)結(jié)果。