設(shè)備功能
設(shè)備使用角度可調(diào)節(jié)靶槍，靶槍高度、角度可以調(diào)節(jié)。通過(guò)調(diào)節(jié)靶槍高度和角度，可以優(yōu)化濺射均勻性以及臺(tái)階覆蓋率。
*采用共焦濺射結(jié)構(gòu)，優(yōu)點(diǎn)：
*小靶槍濺射大工件，2-3英寸靶槍濺射3-4英寸工件。
*共焦濺射特別適合鍍制需要臺(tái)階覆蓋的工件，通過(guò)調(diào)整角度可調(diào)靶槍的傾斜角度，可以調(diào)節(jié)臺(tái)階覆蓋率。
*工藝氣體從真空室抽氣口前部通入靶面，抽氣口位于真空室側(cè)部，保證整個(gè)真空室內(nèi)反應(yīng)氣體濃度穩(wěn)定一致。

二．設(shè)備技術(shù)指標(biāo)
1.極限真空：優(yōu)于3E-5Pa（經(jīng)烘烤除氣后）；
2.抽速測(cè)試：從大氣抽到工作真空（5E-4Pa）時(shí)間少于30分鐘；
3.系統(tǒng)漏率：≤2x10-7Pa.l/S(以氦質(zhì)譜檢漏儀測(cè)試指標(biāo)考核）；
4.系統(tǒng)保壓：系統(tǒng)抽至高真空后停泵關(guān)機(jī)保壓12小時(shí)后真空度小于10Pa;
5.濺射靶槍：可配備2支2英寸靶槍或2支3英寸靶槍；
6.基片加熱：襯底加熱溫度500℃，室溫至200度精度:±3°C，300度至500度精度:±1.5°C；樣品臺(tái)可加負(fù)偏壓-800V；
7.濺射尺寸：襯底基片4英寸，兼容4英寸、2英寸、Φ45mm、Φ30mm，以及小尺寸方形片（對(duì)角線長(zhǎng)度小于45mm）?；D(zhuǎn)速度：5～25rpm連續(xù)可調(diào)；

8.成膜質(zhì)量：托盤3英寸范圍內(nèi)均勻性優(yōu)于±4%；

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