狹縫式涂布機是一種用于在表面上涂布薄膜、涂料或液體材料的設(shè)備。它通常由一個具有狹縫形狀的噴嘴或涂布頭部組成，通過控制狹縫的寬度和涂布材料的流量來實現(xiàn)精確的涂布過程。這種涂布機在工業(yè)生產(chǎn)中廣泛應(yīng)用，特別是在印刷、涂裝、電子制造和其他需要精密涂布的領(lǐng)域。狹縫式涂布機的工作原理是將涂布材料通過泵送或噴射系統(tǒng)輸送至狹縫噴嘴，然后通過調(diào)節(jié)狹縫的寬度和涂布速度來控制涂布厚度。這種精確的控制使得狹縫式涂布機非常適合需要高質(zhì)量、均勻涂布的應(yīng)用。這種涂布技術(shù)常用于制造平板顯示器、光伏電池、柔性電子設(shè)備等高科技產(chǎn)品的生產(chǎn)過程中。狹縫式涂布機的優(yōu)勢包括高精度、高效率、節(jié)省材料和可在各種基材上實現(xiàn)均勻涂布?？偟膩碚f，狹縫式涂布機在現(xiàn)代工業(yè)中扮演著重要的角色，為許多領(lǐng)域提供了精確、可控的涂布解決方案。

 在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，狹縫式涂布技術(shù)有著重要的應(yīng)用，特別是在制備薄膜和涂覆材料的過程中。以下是一些狹縫式涂布在半導(dǎo)體行業(yè)中的主要應(yīng)用：

光刻膠涂覆： 在半導(dǎo)體制造中，光刻是一項關(guān)鍵的工藝，用于定義芯片上的圖形和結(jié)構(gòu)。狹縫式涂布機常用于涂覆光刻膠在硅片表面，確保光刻膠均勻覆蓋并形成一致的薄膜。這是為了保證后續(xù)曝光、顯影等步驟能夠準(zhǔn)確地傳遞芯片設(shè)計的圖案。

化學(xué)機械拋光（CMP）涂覆： CMP是半導(dǎo)體工藝中用于平坦化硅片表面的關(guān)鍵步驟。在CMP涂覆中，狹縫式涂布機可用于將腐蝕液體（slurry）均勻涂布在硅片表面，以便在拋光過程中實現(xiàn)材料的均勻去除，從而獲得平整的表面。

薄膜涂布： 制造半導(dǎo)體器件通常涉及在硅片上涂覆不同的薄膜層，例如氧化物、金屬薄膜等。狹縫式涂布機可確保這些薄膜在硅片表面均勻分布，從而提高器件的性能和可靠性。

電介質(zhì)涂布： 在半導(dǎo)體器件中，電介質(zhì)層通常用于隔離不同電路元件或作為絕緣材料。狹縫式涂布機可以精確地涂布這些電介質(zhì)材料，確保其厚度和均勻性，從而維持器件的電學(xué)性能。

 總的來說，狹縫式涂布技術(shù)在半導(dǎo)體制造中扮演著關(guān)鍵的角色，為各種工藝步驟提供了高精度和均勻性的涂覆解決方案，從而確保半導(dǎo)體器件的質(zhì)量和性能。

一、產(chǎn)品使用范圍：

• 彎月牙涂膠基板尺寸：1400 mm×420 mm×200 mm)；

• 液體膠刀的有效尺寸為：420mm：

二、設(shè)備概述：此膠狹縫系統(tǒng)包括供膠系統(tǒng)、精密膠刀、平面度調(diào)節(jié)機構(gòu)、膠盒移動等部件組成。

• 供膠系統(tǒng)：伺服電機帶動磁力泵供給膠刀，回流過濾循環(huán)供給，膠泵采購進(jìn)口壓力流量可調(diào)的磁力泵。

•  精密膠刀：膠刀出液狹縫可調(diào)，可適應(yīng)100CP-200CP的光阻藥液。同時出液的高度（0.15-0.25mm）通過調(diào)整泵的供壓力及狹縫配合來調(diào)

• 面度調(diào)節(jié)機構(gòu)：膠刀與膠盒的平行度可通過膠盒內(nèi)的螺釘進(jìn)行調(diào)平，膠刀與連接平面也可調(diào)整，膠刀與基板的平面通過機械方式也可調(diào)整。

• 利用電磁閥及氣缸來實現(xiàn)膠盒蓋的上下、左右方向的移動。 三、設(shè)備控制設(shè)計：

• 供泵系統(tǒng)膠泵為伺服電機，膠泵的壓力、流速通過調(diào)節(jié)電機的轉(zhuǎn)速控制。

•  膠盒蓋通過氣缸控制+電磁閥（氣缸都裝有上下，左右位置檢測傳感器）。

•  基板移動加有接近開關(guān)（主要用于檢測基板是否移過）。

芯片無塵室的超凈服介紹

在勻膠顯影設(shè)備凈化間，工作人員通常需要穿著超凈服以確保產(chǎn)品的質(zhì)量和純度，保證實驗數(shù)據(jù)的精確。這種服裝的設(shè)計主要是為了防止工作人員的身體表面或呼出的空氣對微型電子元件的制造環(huán)境產(chǎn)生污染。超凈服通常被稱為Cleanroom Suit"或者"Bunny Suit"，做半導(dǎo)體制造的小伙伴應(yīng)該對超凈服比較熟悉，但是你確定自己懂它嗎?

超凈服的歷史——超凈服，是由英特爾Fab工廠提出，其歷史可以追溯到1968年。當(dāng)時的芯片無塵室內(nèi)工作人員穿著自己的衣物，并且環(huán)境并非無菌的。甚至有人會把比薩餅放在擴(kuò)散爐上烘烤加熱。到了1971年，Intel的Fab 2工廠要求員工穿著專用罩衣，但不需要頭套或護(hù)腿。員工可以把它們帶回家洗，這種做法在常規(guī)清潔度上可能足夠，但卻無法防止小顆粒污染微芯片。更嚴(yán)格的清潔服裝協(xié)議始于1973年，Intel的Fab3工廠普及了我們目前熟悉的現(xiàn)代超凈服，并在1980年成為Intel公司的標(biāo)準(zhǔn)，隨后流行開來。

超凈服的材質(zhì)——常見材質(zhì)為聚酯。超凈服所用的聚酯材料是一種常見的聚合物，主要由聚酯纖維制成。聚酯是一種大分子聚合物，由酯基連接的單體重復(fù)單元組成。酯基是一個化學(xué)功能團(tuán)，由一個羰基(C=O)和一個氧原子(-0-)組成，形式為 -C00-。聚酯是聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)。

以下是聚酯材料的一些主要特性:

1.耐磨:聚酯是一種非常耐磨的材料，其強度比自然纖維高。

2.耐化學(xué)品:聚酯對大多數(shù)常見的工業(yè)化學(xué)品具有很好的抵抗力，包括酸，堿和有機溶劑。這使得它在需要接觸化學(xué)品的環(huán)境中非常有用。

3.易洗:聚酯纖維的另一個優(yōu)點是它易于清洗，可以在機器中洗滌，且不易皺。此外，它可以在高溫下清洗，這對于保持超凈服的潔凈至關(guān)重要。

4.防靜電:聚酯本身可能會產(chǎn)生靜電，但是超凈服的聚酯材料通常會摻入防靜電纖維或者涂覆有防靜電劑，以降低靜電積累。超凈服的靜電如何導(dǎo)走的?

超凈服防止靜電積聚的一種重要方式是通過地面接地系統(tǒng)，將人體產(chǎn)生的靜電導(dǎo)入大地。在勻膠顯影設(shè)備生產(chǎn)車間，員工通常需要穿戴特別的防靜電鞋或鞋套。這些鞋子或鞋套是由導(dǎo)電材料制成的，可以將人體產(chǎn)生的靜電從人體導(dǎo)入到地面。#凈化間的勻膠顯影設(shè)備#半自動勻膠機#勻膠顯影工藝#愛姆加半導(dǎo)體設(shè)備