MORPH KDP® 納米級動態(tài)分離式研磨機
創(chuàng)新濕法研磨動態(tài)分離技術(shù)
MORPH KDP 納米級動態(tài)分離式研磨機在能量密度、流速和研磨珠尺寸方面的適用參數(shù)范圍極寬。多種可用的材質(zhì)組合,該技術(shù)適用于濕法研磨和分散的幾乎所有應(yīng)用。
創(chuàng)新濕法研磨動態(tài)分離技術(shù)
MORPH KDP 納米級動態(tài)分離式研磨機在能量密度、流速和研磨珠尺寸方面的適用參數(shù)范圍極寬。多種可用的材質(zhì)組合,該技術(shù)適用于濕法研磨和分散的幾乎所有應(yīng)用。
高效離心分離系統(tǒng)可以使用最小直徑為0.1mm到1.8mm的研磨介質(zhì)連續(xù)運行操作。它是專門為濕法研磨、分散工藝,特別是納米范圍內(nèi)的“溫和分散”而設(shè)計的。這種機型很容易操作,使用起來是一種樂趣。
四種研磨筒的尺寸:2L ,10L , 25L 和 60L
整體設(shè)計風格結(jié)構(gòu)緊湊
內(nèi)置研磨介質(zhì)格柵收集盤,防止物料損失
研磨筒體可轉(zhuǎn)向或在軌道上移動,便于維護維修
研磨主軸及進料泵的驅(qū)動由變頻器控制
物料的流量由流量計控制
壓力由壓力傳感器控制
產(chǎn)品進料和出料的溫度可以測量,如果需要,冷卻水溫可測量
研磨筒冷卻水流量測定
研磨筒體用不SiC 碳化硅材料。若要耐磨,防腐蝕和防金屬污染,則可采用以下幾種材料:氧化硅,氧化鋯及聚氨酯.
整體設(shè)計風格結(jié)構(gòu)緊湊
內(nèi)置研磨介質(zhì)格柵收集盤,防止物料損失
研磨筒體可轉(zhuǎn)向或在軌道上移動,便于維護維修
研磨主軸及進料泵的驅(qū)動由變頻器控制
物料的流量由流量計控制
壓力由壓力傳感器控制
產(chǎn)品進料和出料的溫度可以測量,如果需要,冷卻水溫可測量
研磨筒冷卻水流量測定
研磨筒體用不SiC 碳化硅材料。若要耐磨,防腐蝕和防金屬污染,則可采用以下幾種材料:氧化硅,氧化鋯及聚氨酯.