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      H94-25C型4″單面光刻機

      參考價面議
      具體成交價以合同協(xié)議為準
      • 公司名稱杭州華盼科技有限公司
      • 品       牌
      • 型       號H94-25C型
      • 所  在  地杭州市
      • 廠商性質(zhì)其他
      • 更新時間2023/10/10 18:46:06
      • 訪問次數(shù)222
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      杭州華盼科技有限公司成立于2013年,坐落于美麗的“天堂之都”杭州,專業(yè)從事各類國內(nèi)外科學儀器、測量儀器、實驗室設(shè)備產(chǎn)品銷售、技術(shù)推廣、售后服務(wù)、技術(shù)開發(fā)等為一體綜合發(fā)展的高科技公司,為高校、科研及工業(yè)用戶提供測試測量設(shè)備、分析儀器及解決方案。 華盼人始終堅持“客戶至上、用心服務(wù)、誠信立業(yè)、合作共贏”的經(jīng)營理念,秉承“誠信、嚴謹、熱情、高效”的企業(yè)作風,發(fā)揚“團結(jié)、務(wù)實、拼搏、創(chuàng)新”的企業(yè)精神,立足廣大客戶,以誠信經(jīng)營參與競爭,以優(yōu)質(zhì)服務(wù)占領(lǐng)市場,與時俱進,共同發(fā)展!竭誠希望與廣大的客戶建立一個長期互贏的合作關(guān)系!
      簡要描述:主要用于中小規(guī)模集成電路、半導體元器件、聲表面波器件的研制和生產(chǎn)。
      H94-25C型4″單面光刻機 產(chǎn)品信息

      主要用途
      主要用于中小規(guī)模集成電路、半導體元器件、聲表面波器件的研制和生產(chǎn)。由于本機找平機構(gòu)*,找平力小、使本機不僅適合硅片、玻璃片、陶瓷片、寶石片的曝光,而且也適合易碎片如砷化鉀、磷化銦等基片的曝光以及非圓形基片和小型基片的曝光。

      主要構(gòu)成
      主要由高精度對準工作臺、雙目分離視場CCD顯微顯示系統(tǒng)、多點光源(蠅眼)曝光頭、PLC電控系統(tǒng)、氣動系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)、直聯(lián)式真空泵、二級防震工作臺和附件箱等組成。

      主要功能特點
      1.適用范圍廣
      適用于Φ100mm以下(較小尺寸為Φ5mm),厚度5mm以下的各種基片(包括非圓形基片)的對準曝光。
      2.分辨率高
      采用高均勻性的多點光源(蠅眼)曝光頭,非常理想的三點式自動找平機構(gòu)和穩(wěn)定可靠的真空密著裝置,使本機的曝光分辨率大為提高。
      3.套刻精度高、速度快
      采用版不動片動的下置式三層導軌對準方式,使導軌自重和受力方向保持一致,自動消除間隙;承片臺升降采用無間隙滾珠直進導軌、氣動式Z軸升降機構(gòu)和雙簧片微分離機構(gòu),使本機片對版在分離接觸時漂移特小,對準精度高,對準速度快,從而提高了版的復用率和產(chǎn)品的成品率。
      4.可靠性高
      采用PLC控制器、進口電磁閥和按鈕、的氣動系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)和經(jīng)過精密機械制造工藝加工的零件,使本機具有非常高的可靠性且操作、維護、檢修簡便。
      5.特設(shè)“碎片”處理功能
      解決非圓形基片、碎片和底面不平的基片造成的版片分離不開所引起的版片無法對準的問題。

      主要技術(shù)指標

      1.曝光類型:單面;

      2.曝光面積:110×110mm;★

      3.曝光照度不均勻性:≤3%;★

      4.曝光強度:≥40mw/cm2可調(diào);★

      5.紫外光束角:≤3?;★

      6.紫外光中心波長:365nm、404nm、435nm可選:

      7.紫外光源壽命:≥2萬小時;

      8.曝光分辨率:1μm;

      9.曝光模式:可選擇一次曝光或套刻曝光;

      10.顯微鏡掃描范圍:X:±40mm Y:±40mm;★

      11.對準范圍:X、Y粗調(diào)±3mm,細調(diào)±0.3mm;Q粗調(diào)±15°,細調(diào)±3°;★

      12.套刻精度:1μm;★

      13.分離量;0~50μm可調(diào);★

      14.接觸-分離漂移:≤1μm;★

      15.曝光方式:密著曝光,可實現(xiàn)硬接觸、軟接觸和微力接觸曝光;

      16.找平方式:三點式自動找平;★

      17.顯微系統(tǒng):雙視場CCD系統(tǒng),顯微鏡45X~300X連續(xù)變倍(物鏡1.1X~7.5X連續(xù)變倍),雙物鏡距離可調(diào)范圍11mm~100mm,計算機圖像處理系統(tǒng),19″液晶監(jiān)視器;★

      18.掩模版尺寸:3″×3″、4″×4″、5″×5″;★

      19.基片尺寸:φ2、φ3、φ4;★

      20.基片厚度:≤5 mm;

      21.曝光定時:0~999.9秒可調(diào);

      22.對準方式:切斯曼對準機構(gòu)。★

      23.曝光頭轉(zhuǎn)位:氣動;

      24. 電源:單相AC220V 50HZ ,功耗≤1KW;

      25.潔凈空氣壓力:≥0.4MPa;

      26.真空度:-0.07MPa~-0.09MPa;

      27.尺寸: 920mm(長)×680mm(寬)×1600mm(高);

      28.重量:約180Kg。

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