一、產(chǎn)品特色

1、CCD全譜光譜制造技術(shù)通道不受限制。 ；

2、與國際光譜儀技術(shù)同步，采用真空全譜技術(shù)，快速穩(wěn)定。

3、自動譜庫尋找，無需再繁瑣的波峰掃描工作。

4、隨時增加分析材料種類及分析元素，無須變動增加硬件。

5、智能分析模式，快速準確測定各種金屬材料中的元素含量。

6、體積小、重量輕， 移動安裝方便。

7、高集成度、高可靠性、高穩(wěn)定性。

8、采用真空光室結(jié)構(gòu)相對與沖氬式光譜儀氬氣消耗低。

優(yōu)化設(shè)計的真空光學系統(tǒng)

光學系統(tǒng)帕邢-龍格結(jié)構(gòu)設(shè)計，所有譜線集成在羅欄園上。

真空技術(shù)整體光學室裝置及光學部件整體集成限度的保障光學系統(tǒng)的穩(wěn)定性。

采用直射式光學技術(shù)及透鏡采取MgF2材料，保證C、S、P、N紫外波長的能量。

全數(shù)字激發(fā)光源

1、全數(shù)字化智能復合光源DDD技術(shù)，可以根據(jù)不同材料的激發(fā)特點自動調(diào)節(jié)光源激發(fā)參數(shù)，真正實現(xiàn)全數(shù)字化控制。

2、采用全數(shù)字控制模式，高能預燃技術(shù)（HEPS），超穩(wěn)定的能量釋放在氬氣環(huán)境中激發(fā)樣品。

3、全數(shù)字光源的應用，提高了樣品的測量精度和相似性，提高了樣品激發(fā)速度，-提高火花穩(wěn)定性，使樣品有更好的重現(xiàn)性。

4、放電頻率100Hz-1000Hz可調(diào)

5、放電電流達到400A。

功能性設(shè)計的激發(fā)裝置

集成氣路設(shè)計、噴射電極技術(shù)，的火花臺以及采用等離子激發(fā)，不僅保證樣品測量精度還能夠測量各種復雜形狀的樣品（含線材）。

銅火花臺制造，使樣品激發(fā)中具有的散熱效果，保證連續(xù)激發(fā)狀態(tài)下的數(shù)據(jù)穩(wěn)定性。

單板式透鏡裝置設(shè)計，一般人員都能方便對激發(fā)臺進行維護和透鏡的清洗。

高集成、高速度讀出系統(tǒng)

高性能CCD固態(tài)檢測技術(shù)，檢測靈敏度高，全譜讀取所有元素的譜線，實現(xiàn)波段內(nèi)的全譜接收，交替放置的CCD探測器滿，動態(tài)范圍大，譜線選擇靈活。

采用FPGA技術(shù)及高速數(shù)據(jù)通訊技術(shù)，數(shù)據(jù)讀入功能強大，檢測數(shù)據(jù)整體讀入時間短，提高了儀器的分析速度。

直觀、易操作的分析軟件

基于WINDOWS系統(tǒng)的多國語言的CCD全譜分析軟件的管理和控制整個測量過程，為用戶提供強大的數(shù)據(jù)處理能力和測試報告輸出能力。

儀器操作全程監(jiān)控，實時報警，使分析人員及時掌握儀器的分析動態(tài)和運營狀態(tài)。

儀器在軟件中配備多條工廠校正曲線及更多材質(zhì)分析及*的解決方案。

儀器實現(xiàn)全譜分析，智能扣干擾，扣暗電流、背景和噪聲的算法，極大地提高了儀器的分析能力。

二、技術(shù)參數(shù)

1、分析基體： Fe、Cu、Al、Ni、Ti、Co、Zn、Sn、Mg、Pb等

2、光學結(jié)構(gòu)： 帕邢-龍格羅蘭圓全譜真空型光學系統(tǒng)

3、波長范圍： 130-800nm（可分析N元素）

4、焦距 ：400mm

5、光柵刻線： 3000條/mm

6、探測器： 高性能CCD陣列,每塊CCD 3,648 像素，

7、電極： 鎢材噴射電極

8、分析間隙： 樣品臺分析間隙：3.4mm

9、光源類型： 全新可調(diào)節(jié)數(shù)字化光源，高能預燃技術(shù)（HEPS）

10、激發(fā)頻率： 100-1000Hz

11、放電電流 ：400A

12、真空系統(tǒng)： 真空軟件自動控制、監(jiān)測