BG-406系列曝光機(jī)主要用于中小規(guī)模集成電路、二極管、三極管、GPP器件、LED、電力電子器件、MEMS和其它半導(dǎo)體器件制造工藝中的對(duì)準(zhǔn)和曝光。該系列曝光機(jī)包括4″、6″單/雙面曝光機(jī),可實(shí)現(xiàn)單/雙面對(duì)準(zhǔn)、單面曝光。
主要技術(shù)特點(diǎn)

對(duì)準(zhǔn)工作臺(tái)
對(duì)準(zhǔn)精度搞,漂移小,精密楔形誤差補(bǔ)償機(jī)構(gòu)實(shí)現(xiàn)三點(diǎn)找平,找平力小,延長(zhǎng)掩摸版使用壽命。

曝光系統(tǒng)
采用柱體蠅眼透鏡和高能力集光的橢球反射鏡等精密光學(xué)件,具有較高的光強(qiáng)、均勻性、光學(xué)分辨率。

顯微鏡
顯微鏡像質(zhì)清晰,觀察舒適。

顯微鏡掃描系統(tǒng)
采用電機(jī)驅(qū)動(dòng),帶動(dòng)顯微鏡系統(tǒng)相對(duì)工作臺(tái)的二維運(yùn)動(dòng),完成顯微鏡觀察和掃描。

控制系統(tǒng)
采用工業(yè)計(jì)算機(jī)總線系統(tǒng),人機(jī)交互界面簡(jiǎn)潔直觀,操作方便,同時(shí)提供個(gè)性化服務(wù)。
主要技術(shù)指標(biāo)
性能名稱 | 技術(shù)指標(biāo) | ||
工作臺(tái)行程 | X向 | ±5mm | |
Y向 | ±5mm | ||
Z向 | 8mm | ||
θ向 | ±5° | ||
適用基片尺寸 | Max 6″(φ150 mm) | ||
適用掩模版尺寸 | Max 7″(175×175 mm) | ||
頂部顯微鏡 | 放大倍率 | CCD連續(xù)變倍40×~300× | |
掃描范圍 | 50mm×50mm | ||
調(diào)焦范圍 | 8mm | ||
物鏡分離距離 | 28~90mm(4″晶圓) 75~150mm(6″晶圓) | ||
對(duì)準(zhǔn)精度 | ±0.5μm | ||
底部顯微鏡 | 放大倍率 | 330× | |
物鏡掃描范圍X | 50~140mm | ||
物鏡掃描范圍Y | ±12mm | ||
對(duì)準(zhǔn)精度 | ±2μm | ||
曝光光源 | UV365,500W超高壓汞燈 | ||
曝光面積 | φ108mm φ160mm | ||
曝光分辨率 | 1.5μm(膠厚≤1μm正膠、真空接觸) | ||
光強(qiáng) | ≥20mW/cm2 | ||
曝光不均勻性 | ±3%(曝光面積φ108mm) ±5%(曝光面積φ160mm) | ||
曝光時(shí)間 | 0~999s | ||
整機(jī)功率 | 2KW | ||
外形尺寸 | 1300mm×1100mm×1650mm | ||
重量 | 350Kg |