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      產品|公司|采購|資訊
      
 
      
        	
            
        
      
			
      
	
      
	
      

		
      
		 	
		 
      
		
      
				
			
      
				
      雙面曝光曝光機
      
							    
				
      
								
      
					
      
														
      參考價面議
      
												
      
					
      具體成交價以合同協議為準
      
				
      
				                  
      
								
      
					
        
						
      • 公司名稱德揚光電有限公司
						           
           
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      • 品       牌
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      • 型       號
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      • 所  在  地
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      • 廠商性質其他
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      • 更新時間2023/6/23 18:15:23
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      • 訪問次數244
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      本公司成立于2006年,為一小型之設備制造廠,專精于半導體微影制程之光罩對準曝光機及曝光源之開發(fā)制造,從曝光燈箱內的光學設計到各種型式的完整曝光機,本公司經多年努力已自行開發(fā)完成,并已出貨國內外眾多客戶。
      
				
      
				
				
      
				
				
      
					曝光機
				
      
							   			
							
				
      
				
      
			        
      
    	             			        
      
				
      
				
      
  				 
					產品簡介： 雙面曝光曝光機采用上及下兩組曝光源，欲曝光機基板夾于上下光罩之間同時曝基板上下兩面，對雙面制程之基板之產能， 能兩倍于單面曝光制程。
				
      
				
      
				
      
                
                
                
                
      
				
      
				
      
					
      
						雙面曝光曝光機 產品信息
					
      
					
      
						      
               
                           
                                    
                
                    
       
      雙面曝光曝光機
         
      產品簡介： 
      雙面曝光曝光機采用上及下兩組曝光源，
       
      欲曝光機基板夾于上下光罩之間同時曝基板上下兩面，
       
      對雙面制程之基板之產能， 能兩倍于單面曝光制程。
       
              
           
            
               
      曝光燈源
       
       
      紫外光源功率350W or 500W
       
      曝光光源尺寸:4″，5″，6″ ， 8″
       
      波長: UV(350W時365nm強度約16~20mW/cm2)
       
      均勻度: +-5%電源供應器:定功率控制
       
      快門控制計時器:0.1~999.9秒
       
       
       
      影像系統
       
      采用可變倍率鏡頭影像系統，總影像倍率100X-600X。
       
      小型高解析黑白CCD攝影機，19”LCD螢幕LED同軸光源打光，
       
      影像解析度可達1um鏡頭位置調整，可前后左右上下微調約20mm，
       
      可選擇使用一組或兩組影像系統，選配快速掃描臺，可快速移動鏡頭，前后左右移動約10cm。
       
       
      曝光對準臺
       
       
      光罩真空吸盤: 4”，5” 或 6”下吸式
       
      晶圓真空吸盤: 破片2”，3”，4” 或5”
       
      具光罩與晶圓平行面校正功能，
       
      晶圓真空吸盤可前后左右調整約10mm，調整靈敏度1um
       
      旋轉調整約5度，調整靈敏度0.001度
       
      Z軸可調整約3mm， 調整靈敏度1um
       
      Z軸具千分表可顯示光罩與晶圓間距，Z軸可設定對準與曝光兩種間隙，可調整接觸真空吸附力大小
       
      曝光模式有Vacuum contact，Soft contact，Proximity 人工置放晶片與調整晶片位置，取放晶圓時光罩吸盤以手開啟 。
       
      人工置放晶片與調整晶片位置，取放晶圓時光罩吸盤以手開啟。
       
       
       
      操作系統
       
      采全手動撥鈕操作系統，以手動控制面板操作
       
      操作項目包括光罩與晶圓之更換，光罩與晶圓間隙之切換
       
      光罩與晶圓平行面校正，真空接觸之切換與真空值調整
       
      Z軸的歸零，鏡頭與曝光源左右交替移至對準臺上方，并有安全互鎖功能。
       
       
      機座
       
      桌上型大底板機座，具調整腳。
       
       
      性能
       
       
       
       
       
       
       
       
      采真空接觸曝光圖形解析可達1um，
       
      近接曝光依光罩與晶圓間隙可達3~5um。
       
       
       
       
       
       
       
       
           
            
                   
        
					
      

										
									
      
			
      
			
			
      
		
      
						
      
			
      
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