CPN-PSD-100/OP型凈化顯影機(jī)亦是CPN-PS系列產(chǎn)品的基礎(chǔ)品種之一,是半導(dǎo)體器件制造過(guò)程中的專用工藝設(shè)備,采用*的單片微型機(jī)程序自動(dòng)控制,實(shí)現(xiàn)噴霧顯影工藝,電路清晰完整,由于控制系統(tǒng)穩(wěn)定,在進(jìn)行工藝中不飛片,顯影速度快(30S)和節(jié)省顯影液,主要用于科研和生產(chǎn)單位大規(guī)模集成電路和其他半導(dǎo)體器件的光刻工藝中作顯影之用。
一、本機(jī)顯影工藝采用了*的噴霧方式,可根據(jù)工藝要求噴霧狀態(tài)電機(jī)的轉(zhuǎn)數(shù),程序時(shí)間的工藝參數(shù)都可在很寬的數(shù)值范圍內(nèi)調(diào)整。其程序?yàn)檠訒r(shí)吸片-顯影-漂洗-干燥-延時(shí)復(fù)位。
二、采用噴霧顯影工藝后電路圖形清晰完整,特別是對(duì)較細(xì)線條電路采用此工藝可得到很高的效果。
三、本設(shè)備除能顯影工藝外,亦可進(jìn)行涂膠工藝.
主要技術(shù)指標(biāo):
1、顯影工位:1個(gè)工位
2、程序時(shí)間:顯影 1-99秒或999秒
3、漂洗 1-99秒或999秒
4、干燥 1-99秒或999秒
5、旋轉(zhuǎn)器轉(zhuǎn)數(shù):500-8000轉(zhuǎn)/分(連續(xù)可調(diào))
6、硅片直徑:Φ1—Φ100mm
7、凈化效果:100級(jí)(美國(guó)聯(lián)邦標(biāo)準(zhǔn))
8、操作區(qū)風(fēng)速:0.3-0.5米/秒
9、氣流狀態(tài):垂直層流
10、外形尺寸:1620mm(高)*650(寬)*800
11、整機(jī)包裝重量:150KG
12、氮?dú)庠矗?/span>N2管道或鋼瓶(進(jìn)氣壓力0.2-0.3MP/cm2)