基片尺寸
ψ50mm~ψ200mm
Cassette 晶舟
2-4個(gè)晶舟
Coater Unit 涂膠單元
1、PR類型:正膠/ 負(fù)膠 ;2、光刻膠噴頭 2 ~ 4 個(gè); 3、EBR ( Edge Bead Remover ); 4、馬達(dá)旋轉(zhuǎn)速度 Max. 6,000rpm; 5、高精度定量泵浦≦0.1cc ( 100cp以下)
Robot Arm 機(jī)械手臂
3軸; X1, X2, X3
Hot Plate熱盤單元
溫度50℃-180℃
Cooling Plate冷盤單元
溫度18-28℃
機(jī)臺(tái)尺寸
D(1200+2410)× W1700 × H2300 (mm)
顯影機(jī)基片尺寸
ψ50mm~ψ300mm
Developer 顯影單元
1、可應(yīng)用噴頭 Spray, Stream, E2 , H ;2、馬達(dá)旋轉(zhuǎn)速度 Max. 5,000rpm