一、設(shè)備用途
真空磁懸浮熔煉方法,是近些年來飛速發(fā)展的一種熔煉方法,主要用來制取高熔點(diǎn)、高純度和極活潑的金屬,在冶金和材料制備等許多重要領(lǐng)域得到了廣泛的應(yīng)用,顯示出良好的應(yīng)用前景。
二、設(shè)備特點(diǎn)
1·真空磁懸浮熔煉,料與坩堝無接觸冶煉,干凈無污染。
2·冶煉溫度高,設(shè)計溫度可達(dá)2100及以上,專門應(yīng)用于高熔點(diǎn)難熔金屬,活潑金屬等冶煉提純。
3·采用磁懸浮專用IGBT電源,配合自助研發(fā)的水冷分瓣銅坩堝,懸浮效果好。
4·采用兩級分子泵控制系統(tǒng)真空度高,極限可達(dá)5.0*10-4pa。
三、主要技術(shù)參數(shù)
1·設(shè)備型號:KZGF-0.25
2、額定功率:65Kw
3、容量(以鈦計):0.25Kg
4、輸入電源:3 相、 380 ± 10 %、 50Hz
5、冷態(tài)極限真空度:6.67×10E-4Pa
6、控制方式:模擬屏+電動控制(可擴(kuò)展plc+觸摸屏)