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      產(chǎn)品|公司|采購|資訊

      科探實驗室小型直流磁控濺射儀

      參考價 39800
      訂貨量 ≥1
      具體成交價以合同協(xié)議為準
      • 公司名稱鄭州科探儀器設(shè)備有限公司
      • 品       牌其他品牌
      • 型       號KT-Z1650PV
      • 所  在  地鄭州市
      • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
      • 更新時間2023/5/26 15:31:03
      • 訪問次數(shù)227
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      鄭州科探儀器設(shè)備有限公司是集開發(fā)、制造、經(jīng)營為一體的材料創(chuàng)新型企業(yè),如今公司的產(chǎn)品已經(jīng)遍布國內(nèi)大多數(shù)實驗室 及*校,科探儀器已經(jīng)成為老師 同學歡迎和信任的品牌之一

      公司以科技創(chuàng)新為主,服務社會為宗旨,積極設(shè)計開發(fā)新型材料制備設(shè)備,奉獻于教育和科學,經(jīng)過長期的研發(fā)和不斷地技術(shù)積累,擁有熱工,制造,控制相關(guān)技術(shù)10余項,為化學,物理,材料,電子,高分子工程,新材料制備和研發(fā)領(lǐng)域的科學研究提供了精良設(shè)備。公司通過和院校老師 同學強強聯(lián)合,形成了有效的信息,技術(shù)交流平臺,為科探儀器了解市場需求提供了強有力的支持!。

      目前公司已研發(fā)生產(chǎn)產(chǎn)品十多個系列幾十款產(chǎn)品,產(chǎn)品囊括實驗電爐、CVD供氣系統(tǒng)、等離子清洗機、小型離子濺射儀、小型蒸鍍儀等,主要適用于科研院校及工礦企業(yè)在新材料、新能源等領(lǐng)域物理特性及化學特性的研究,廣銷于各大院校,及材料研究所。

      公司與國內(nèi)高校,科研院所有多層次的合作關(guān)系,建有開放實驗室,相關(guān)領(lǐng)域的教授、高級工程師、博士參與公司產(chǎn)品的研究和開發(fā)。我們秉承公司的發(fā)展理念,依靠嚴謹?shù)募夹g(shù)研發(fā)能力,科學合理的生產(chǎn)工藝,精益求精的制造要求,全心全意做好產(chǎn)品質(zhì)量和服務工作,科探儀器時刻懷著一顆真誠的心期待與您的合作。




      真空探針臺,濺射儀,蒸鍍儀,真空泵
      科探實驗室小型直流磁控濺射儀是一種利用濺射技術(shù)制備薄膜的設(shè)備,主要用于制備和研究金屬、合金、氧化物、硅等材料的薄膜。
      它通常由四個主要組件組成:真空室、濺射槍、靶材和控制系統(tǒng)。真空室是封閉的金屬或玻璃盒子,用于維持真空環(huán)境,以避免雜質(zhì)和氣體干擾制備過程。濺射槍是用于向靶材表面發(fā)射離子的設(shè)備,它可以控制濺射速率和角度,從而控制薄膜的厚度和均勻性。靶材是被準備薄膜所需的原材料。
      科探實驗室小型直流磁控濺射儀 產(chǎn)品信息

      科探實驗室小型直流磁控濺射儀鄭州科探儀器設(shè)備是高質(zhì)量定制物理 氣相沉積(PVD)系統(tǒng)的設(shè)計者和制造商,客戶服務和售后服務出色。擁有7年以上真空和薄膜沉積技術(shù)經(jīng)驗。其研發(fā)團隊在學界科學家和工程師的支持下,高度積極地開發(fā)新設(shè)計以滿足客戶的特殊要求。

        鄭科探的工程團隊設(shè)計和制造的組件符合高質(zhì)量標準。KT-Z1650PVD真空鍍膜機已通過分銷商銷往許多大學和研究中心,并得到了很好的參考和反饋。

      儀器描述:

      科探實驗室小型直流磁控濺射儀 ,能夠在非導電或?qū)щ姴涣嫉臉悠飞贤坎冀穑?span style="-webkit-tap-highlight-color: transparent; appearance: none; margin: 0px;">Au),鈀(Pd),鉑(Pt)和金/鈀(Au / Pd)的薄膜。 在較短時間內(nèi)即可形成具有細粒度的均勻薄膜,使樣品適用于掃描電子顯微鏡(SEM)分析。儀器結(jié)構(gòu)緊湊,全自動控制,設(shè)計符合人體工程學,所得結(jié)果一致,可重復性高。


         產(chǎn)品特點:

          彩色觸摸屏:數(shù)據(jù)輸入簡單快速

         • 通過觸摸屏中直觀檢測數(shù)據(jù)和曲線;歷史頁面可顯示歷史涂層信息。

         • 可控鍍膜速率,可得到更精細的晶粒結(jié)構(gòu)

         • 可手動或自動,根據(jù)時間或根據(jù)厚度進行濺射

      • 樣品臺更換簡單:標準旋轉(zhuǎn)樣品臺或選用行星式旋轉(zhuǎn)樣品臺。標準樣品臺高度可調(diào)、可傾斜、可旋轉(zhuǎn);行星式旋轉(zhuǎn)樣品臺為多孔樣品帶來好的噴金效果。

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      ?科探實驗室小型濺射儀技術(shù)參數(shù);

      控制方式

      7寸人機界面 手動 自動模式切換控制

      濺射電源

      直流濺射電源

      鍍膜功能

      0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序

      功率

      ≤1000W

      輸出電壓電流

      電壓≤1000V  電流≤1A

      真空

      機械泵 ≤5Pa(5分鐘)   分子泵≤5*10^-3Pa

      濺射真空

      ≤30Pa

      擋板類型

      電控

      真空腔室

      石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm

      樣品臺

      可旋轉(zhuǎn)φ62  (可安裝φ50基底)

      樣品臺轉(zhuǎn)速

      8轉(zhuǎn)/分鐘

      樣品濺射源調(diào)節(jié)距離

      40-105mm

      真空測量

      皮拉尼真空計(已安裝 測量范圍10E5Pa  1E-1Pa)

      預留真空接口

      KF25抽氣口    KF16放氣口   6mm卡套進氣口










      科探實驗室小型直流磁控濺射儀
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