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      納米紅外成像系統(tǒng)Vista-IR

      參考價面議
      具體成交價以合同協(xié)議為準
      • 公司名稱上海艾時微技術(shù)開發(fā)有限公司
      • 品       牌
      • 型       號
      • 所  在  地
      • 廠商性質(zhì)其他
      • 更新時間2023/4/4 10:32:43
      • 訪問次數(shù)381
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      上海艾時微技術(shù)開發(fā)有限公司是由中科院、廈門大學、華東理工大學等高校專家團隊支持的,由多位半導(dǎo)體、科研領(lǐng)域背景的技術(shù)人員創(chuàng)立,公司秉承“專業(yè)、提升、溝通”的理念,聚焦于表面形貌及力學量測,膜厚及電性量測,缺陷及顆粒檢測和成分分析四大領(lǐng)域,立志為科研及半導(dǎo)體領(lǐng)域貢獻自己的力量。
      Molecular Vista的納米紅外成像與光譜采集系統(tǒng),依靠其的光誘導(dǎo)力顯微鏡技術(shù)可以實現(xiàn)10 nm空間分辨的紅外成像與光譜采集。
      納米紅外成像系統(tǒng)Vista-IR 產(chǎn)品信息

      Vista-IR納米紅外介紹:

      傅立葉變化紅外光譜(Fourier Transform infrared spectroscopy, FTIR)廣泛應(yīng)用于各種化學分析,尤其是聚合物和有機化合物分析,為現(xiàn)代化學提供了重要的分析手段。然而常規(guī)的傅立葉紅外光譜由于受到光學衍射極限的限制,其空間分辨率也越來越無法滿足科研人員在納米尺度下對于樣品進行化學分析及成分鑒定。在這一背景下,Molecular Vista應(yīng)運而生,推出了全新一代納米紅外成像與光譜采集系統(tǒng)Vista-IR!

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      Vista-IR納米紅外聯(lián)合波長可調(diào)的紅外光源,利用的光誘導(dǎo)力顯微鏡Photo-induced Force Microscope, PiFM技術(shù),可以在掃描形貌的同時實現(xiàn)10nm空間分辨的紅外成像與光譜采集,無需遠場光學探測器及干涉儀。

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      10 nm空間分辨的紅外光譜成像與光譜采集或紅外高光譜成像

      嵌段共聚物相分離研究(PS-b-PMMA):半截距為~10 nm的嵌段共聚物紅外成像,截面結(jié)果顯示光誘導(dǎo)力顯微鏡實現(xiàn)了~5 nm的橫向空間分辨!

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      多層聚合物界面研究(Epoxy-pDEGDA-SDIB):以10 nm間隔以及0.2秒/譜的采集速度沿聚合物界面采集了30條紅外光譜,從1~30位置處光譜中強度梯度變換可以確定聚合物界面的位置以及寬度。

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      二維有機半導(dǎo)體晶體生長研究(C6-DPA)厚度為~2 nm的有機半導(dǎo)體晶體紅外成像,截面結(jié)果顯示光誘導(dǎo)力顯微鏡實現(xiàn)了單層的縱向分辨率!

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      光誘導(dǎo)力顯微鏡采集的紅外光譜與標準FTIR光譜高度吻合:科研人員可以將PiFM紅外光譜與FTIR紅外光譜圖庫中的數(shù)據(jù)進行對比分析。

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      ZSM-5沸石分子篩:光誘導(dǎo)力顯微鏡不僅適合有機物的表征也適合無機物的表征。以下為不同Si/Al的ZSM-5晶體的紅外骨架振動峰在1100 cm-1處的紅移及劈裂情況,以及在1480 cm-1處的C=C伸縮振動峰的紅外成像來反映其參與甲醇制碳氫化合物(MTH)催化反應(yīng)后的結(jié)焦分布。

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      晶圓缺陷與污染物:光誘導(dǎo)力顯微鏡可以對納米級缺陷的尺寸和化學成分進行測量與分類。示例形貌圖顯示缺陷的大小約為100 nm,厚度約為3 nm。缺陷上的PiF-IR光譜與Teflon的FTIR光譜很好地匹配,使我們能夠?qū)⒃撊毕葑R別為Teflon。

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      Vista One Platform:

      Visible ~ IR chemical imaging and spectroscopy, E-field imaging, photovoltage/current imaging with sub-10 nm spatial resolution.

      Also being combined with Confocal Raman, PL imaging and other kinds of far field spectroscopy and optical microscopy.


      關(guān)鍵詞:顯微鏡 探測器
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