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      1英寸高真空磁控濺射頭HVMSS-SPC-1-LD

      參考價面議
      具體成交價以合同協(xié)議為準
      • 公司名稱沈陽科晶自動化設(shè)備有限公司
      • 品       牌
      • 型       號
      • 所  在  地沈陽市
      • 廠商性質(zhì)其他
      • 更新時間2023/3/1 12:28:11
      • 訪問次數(shù)161
      產(chǎn)品標(biāo)簽:

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      沈陽科晶自動化設(shè)備有限公司是由畢業(yè)于美國麻省理工學(xué)院的江曉平博士于2000年5月創(chuàng)建。與合肥科晶材料技術(shù)有限公司、深圳市科晶智達科技有限公司同屬于科晶聯(lián)盟。自SYJ-150低速金剛石切割機誕生以來,沈陽科晶便開始了以趕超國外同行、材料分析設(shè)備潮流為目標(biāo)的發(fā)展歷程。時至今日,已經(jīng)擁有涵蓋材料切割、研磨、拋光、涂膜、鍍膜、混合、壓軋、燒結(jié)、分析等領(lǐng)域以及相關(guān)耗材的上百種產(chǎn)品,可以滿足晶體、陶瓷、玻璃、巖相、礦樣、金屬材料、耐火材料、復(fù)合材料、生物材料等制備分析的全套需要?! ∩蜿柨凭Я⒆銍鴥?nèi)市場實際情況,以提供實用的產(chǎn)品為己任。產(chǎn)品的質(zhì)量、精度在向國外企業(yè)看齊的基礎(chǔ)上,產(chǎn)品的價格定位卻僅僅是其幾分之一。的性價比不僅吸引了眾多國內(nèi)客戶,而且令挑剔的外國客商也稱贊不已,產(chǎn)品遠銷于印度、馬來西亞、土耳其、波蘭、突尼斯、澳大利亞等國家,并大量出口于美國?! ∩蜿柨凭б恢敝铝τ诟叩仍盒?、研究所、生產(chǎn)企業(yè)的科研服務(wù),即產(chǎn)品定位于研究市場,主要面向廣大高等院校、科研機構(gòu)、實驗室以及工廠的小規(guī)模生產(chǎn)。多年以來,已與全國眾多高校、研究院所建立了良好的合作、服務(wù)關(guān)系。其中北京大學(xué)、清華大學(xué)、浙江大學(xué)、哈爾濱工業(yè)大學(xué)、東北大學(xué)等高校,金屬研究所、上海硅酸鹽研究所、中國科學(xué)地質(zhì)與地球物理研究所等科研機構(gòu),中國航天工業(yè)集團公司、中國船舶重工集團公司、攀鋼集團有限公司等企業(yè)都是長期合作的榮譽客戶?! ∩蜿柨凭榱烁玫胤?wù)客戶,專門設(shè)立了開放式專業(yè)實驗室,配備了優(yōu)秀的專業(yè)技術(shù)人員。在這里,不僅可以提供親身的產(chǎn)品體驗環(huán)境,而且還可得到專業(yè)人員的操作指導(dǎo)。開設(shè)以來,制作的樣品達上千件,接待來訪客戶參觀百余次,其中包括多次外國友人的來訪。在此,沈陽科晶全體員工誠摯地歡迎您的到來,并希望您能提出寶貴的意見與建議。此外,沈陽科晶擁有優(yōu)質(zhì)、高效、專業(yè)的銷售咨詢、售后服務(wù)團隊,能夠為每一位客戶提供采購建議與方案、完善的使用指導(dǎo)與售后服務(wù)。使每一位客戶的需求得到滿足是沈陽科晶每個員工不懈努力的目標(biāo)?! ∩蜿柨凭б宦纷哌^的歷程,是為我國材料研究事業(yè)全力貢獻的歷程,是以實際行動將自己打造成國內(nèi)材料分析設(shè)備品牌的歷程,是與國外同行不斷縮小差距的歷程,是與廣大客戶相扶相持的成長歷程。雖一路充滿坎坷與荊棘,但堅持不懈的沈陽科晶人仍全力以赴的前行。秉承這份堅持,相信在不久的將來,沈陽科晶也將會成為國際市場上專業(yè)的、杰出的材料分析設(shè)備品牌,沈陽科晶的明天會更加燦爛輝煌。
      行星球磨機
      1英寸高真空磁控濺射頭HVMSS-SPC-1-LD
      1英寸高真空磁控濺射頭HVMSS-SPC-1-LD 產(chǎn)品信息

      產(chǎn)品簡介:1英寸高真空磁控濺射頭HVMSS-SPC-1-LD主要適用于我公司制造的VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀、VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀,該磁控濺射頭可安裝直徑為1"的靶材。可與直流、脈沖直流和射頻電源相匹配,因此可濺射各種靶材,如金屬靶材(如金、銀、銅等材料)、絕緣靶材(如陶瓷靶材、氧化物靶材、聚四氟乙烯靶材等)、磁性靶材、非磁性靶材等。采用高真空的結(jié)構(gòu)設(shè)計,可提高鍍膜質(zhì)量。1英寸高真空磁控濺射頭HVMSS-SPC-1-LD配裝有環(huán)形NdFeB永磁體在濺射頭上,以保證濺射鍍膜的效率和薄膜在樣品表面分布的均勻性。

       

      產(chǎn)品型號

      1英寸高真空磁控濺射頭HVMSS-SPC-1-LD

      主要特點

      1、采用高質(zhì)量的不銹鋼和陶瓷材料制作。

      2、采用電磁場的有元計算法來設(shè)計永磁體,以得到較高的磁場強度和均勻分布。

      3、磁體表面涂有保護層,以防止冷卻水的腐蝕,延長其使用壽命。

      4、標(biāo)準的HN型接頭,可與DCRF電源相匹配。

      5、安裝采用標(biāo)準真空接頭,便于操作。

      6、靶材更換較為簡單,無需調(diào)整濺射頭的高度。

      7、配有銅靶1塊。

      技術(shù)參數(shù)

      1、濺射頭直徑:Ø46.3mm

      2、所用靶材:直徑1"±0.02"(25.4mm),厚度1/8"(3mm        

      3、磁環(huán):NdFeB稀土永磁體

      4、柄桿直徑:外徑3/4"

      5、電路接頭:標(biāo)準HN型接頭,可與DCRF電源相匹配

      6、所需功率:DC250W,RF100W

      7、陰極濺射電流:3A

      8、陰極濺射電壓:200V-1000V

      9、工作壓力范圍:1mtorr-1torr

      10、濺射厚度均勻性:采用磁控濺射在氧化非晶硅片上沉積一個20nm的薄膜,直流功率150W真空環(huán)境

                                             10mtorr,1"銅靶,與基片距離75mm

                                             

      11、水冷卻:水管接頭為外徑0.25"快插頭,所需水流量1/2GPM,進水溫度<20

                             

      12、高真空快速接頭:為贈送品,數(shù)量1個,內(nèi)徑為0.75",可將濺射頭安裝在真空腔體上,真空腔體上的安裝

                   孔直徑為1",真空腔體的壁厚不得大于1"

                                             

      13、傾斜裝置:濺射頭相對于柄桿可傾斜±45?,設(shè)有刻度線,可觀察到靶頭傾斜的角度

                               

      產(chǎn)品規(guī)格

      尺寸:14"355.6mm);重量:1.36kg

      可選配件

      1、循環(huán)水冷機,流量為16L/min,水箱容積為6L。

      2100W小型手動匹配型射頻電源RF-100-LD,可自行搭建濺射鍍膜儀。

      主要應(yīng)用

      在真空腔體中HVMSS-SPC-1-LD磁控濺射頭可制作各種薄膜,應(yīng)用如下:

      薄膜涂覆、半導(dǎo)體器件、磁記錄介質(zhì)、超導(dǎo)薄膜、量子計算器件、MEMS、生物傳感器、納米技術(shù)、超晶格、顆粒膜、記憶合金、組合薄膜沉積、光學(xué)薄膜

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