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      GSL-450-PLD激光鍍膜設(shè)備

      參考價面議
      具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
      • 公司名稱沈陽科晶自動化設(shè)備有限公司
      • 品       牌
      • 型       號
      • 所  在  地沈陽市
      • 廠商性質(zhì)其他
      • 更新時間2023/3/1 11:44:08
      • 訪問次數(shù)221
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      沈陽科晶自動化設(shè)備有限公司是由畢業(yè)于美國麻省理工學(xué)院的江曉平博士于2000年5月創(chuàng)建。與合肥科晶材料技術(shù)有限公司、深圳市科晶智達(dá)科技有限公司同屬于科晶聯(lián)盟。自SYJ-150低速金剛石切割機(jī)誕生以來,沈陽科晶便開始了以趕超國外同行、材料分析設(shè)備潮流為目標(biāo)的發(fā)展歷程。時至今日,已經(jīng)擁有涵蓋材料切割、研磨、拋光、涂膜、鍍膜、混合、壓軋、燒結(jié)、分析等領(lǐng)域以及相關(guān)耗材的上百種產(chǎn)品,可以滿足晶體、陶瓷、玻璃、巖相、礦樣、金屬材料、耐火材料、復(fù)合材料、生物材料等制備分析的全套需要。  沈陽科晶立足國內(nèi)市場實(shí)際情況,以提供實(shí)用的產(chǎn)品為己任。產(chǎn)品的質(zhì)量、精度在向國外企業(yè)看齊的基礎(chǔ)上,產(chǎn)品的價格定位卻僅僅是其幾分之一。的性價比不僅吸引了眾多國內(nèi)客戶,而且令挑剔的外國客商也稱贊不已,產(chǎn)品遠(yuǎn)銷于印度、馬來西亞、土耳其、波蘭、突尼斯、澳大利亞等國家,并大量出口于美國?! ∩蜿柨凭б恢敝铝τ诟叩仍盒!⒀芯克?、生產(chǎn)企業(yè)的科研服務(wù),即產(chǎn)品定位于研究市場,主要面向廣大高等院校、科研機(jī)構(gòu)、實(shí)驗(yàn)室以及工廠的小規(guī)模生產(chǎn)。多年以來,已與全國眾多高校、研究院所建立了良好的合作、服務(wù)關(guān)系。其中北京大學(xué)、清華大學(xué)、浙江大學(xué)、哈爾濱工業(yè)大學(xué)、東北大學(xué)等高校,金屬研究所、上海硅酸鹽研究所、中國科學(xué)地質(zhì)與地球物理研究所等科研機(jī)構(gòu),中國航天工業(yè)集團(tuán)公司、中國船舶重工集團(tuán)公司、攀鋼集團(tuán)有限公司等企業(yè)都是長期合作的榮譽(yù)客戶?! ∩蜿柨凭榱烁玫胤?wù)客戶,專門設(shè)立了開放式專業(yè)實(shí)驗(yàn)室,配備了優(yōu)秀的專業(yè)技術(shù)人員。在這里,不僅可以提供親身的產(chǎn)品體驗(yàn)環(huán)境,而且還可得到專業(yè)人員的操作指導(dǎo)。開設(shè)以來,制作的樣品達(dá)上千件,接待來訪客戶參觀百余次,其中包括多次外國友人的來訪。在此,沈陽科晶全體員工誠摯地歡迎您的到來,并希望您能提出寶貴的意見與建議。此外,沈陽科晶擁有優(yōu)質(zhì)、高效、專業(yè)的銷售咨詢、售后服務(wù)團(tuán)隊,能夠?yàn)槊恳晃豢蛻籼峁┎少徑ㄗh與方案、完善的使用指導(dǎo)與售后服務(wù)。使每一位客戶的需求得到滿足是沈陽科晶每個員工不懈努力的目標(biāo)?! ∩蜿柨凭б宦纷哌^的歷程,是為我國材料研究事業(yè)全力貢獻(xiàn)的歷程,是以實(shí)際行動將自己打造成國內(nèi)材料分析設(shè)備品牌的歷程,是與國外同行不斷縮小差距的歷程,是與廣大客戶相扶相持的成長歷程。雖一路充滿坎坷與荊棘,但堅持不懈的沈陽科晶人仍全力以赴的前行。秉承這份堅持,相信在不久的將來,沈陽科晶也將會成為國際市場上專業(yè)的、杰出的材料分析設(shè)備品牌,沈陽科晶的明天會更加燦爛輝煌。
      行星球磨機(jī)
      GSL-450-PLD激光鍍膜設(shè)備
      GSL-450-PLD激光鍍膜設(shè)備 產(chǎn)品信息

      產(chǎn)品簡介:用于制備超導(dǎo)薄膜、半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜、超硬薄膜等。廣泛應(yīng)用于大專院校、科研院所進(jìn)行薄膜材料的科研與小批量制備。與同類設(shè)備相比,其不僅應(yīng)用廣泛,且具有體積小便于操作及清理方便的優(yōu)點(diǎn),是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料粉末的理想設(shè)備。

       

      產(chǎn)品型號

      GSL-450-PLD(Pulsed Laser Deposition)

      安裝條件

      本設(shè)備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。

      1、水:設(shè)備配有自循環(huán)冷卻水機(jī),水溫小于25℃,水壓0.25-0.4Mpa,流量高于12 l/min(加注純凈水或者去離子水);

      2、電:AC380V 50Hz,功率大于10KW,波動范圍:小于±6必須有良好接地(對地電阻小于2Ω);

      3、氣:設(shè)備腔室內(nèi)需充注氮/氬氣(純度99.99%以上),需自備氮/氬氣氣瓶(自帶Ø10mm雙卡套接頭)及減壓閥

      4、場地面積設(shè)備尺寸2000mm×2000mm,承重1000kg以上

      5、通風(fēng)裝置:需要(外排廢氣管道)。

      主要特點(diǎn)

      1、由于激光光子能量很高,可濺射制備很多困難的鍍層:如高溫超導(dǎo)薄膜,陶瓷氧化物、氮化物薄膜,多層金屬薄膜等;

      2、體積小,操作簡便可以非常容易的連續(xù)融化多個材料,實(shí)現(xiàn)多層膜制備;

      3、可以通過控制激光能量和脈沖數(shù),精密的控制膜厚

      4、易獲得期望化學(xué)計量比的多組分薄膜,即具有良好的保成分性;

      5、沉積速率高,試驗(yàn)周期短,襯底溫度要求低,制備的薄膜均勻;

      6、工藝參數(shù)任意調(diào)節(jié),對靶材的種類沒有限制。

      技術(shù)參數(shù)

      1、極限真空度:≤6.67x10-5 Pa (經(jīng)烘烤除氣后);

      2、系統(tǒng)真空檢漏漏率:≤5.0x10-7 Pa.l/S;

      3、系統(tǒng)短時間暴露大氣并充干燥氮?dú)夂?,再開始抽氣,20分鐘可達(dá)到5x10-3 Pa。

      基片參數(shù)

      1、基片尺寸:可放置φ2″基片(帶擋板);

      2、基片加熱溫度 800℃±1℃,由熱電偶閉環(huán)反饋控制,采用抗氧化材料作加熱器;

      3、基片可連續(xù)回轉(zhuǎn),轉(zhuǎn)速5~60轉(zhuǎn)/分,電機(jī)驅(qū)動磁耦合機(jī)構(gòu)控制;

      4、基片與靶臺之間距離30~90mm可調(diào)。

      轉(zhuǎn)靶參數(shù)

      1、每次可以裝四塊靶材,靶材尺寸:φ1φ2″;
      2、每塊靶材可實(shí)現(xiàn)自轉(zhuǎn),轉(zhuǎn)速5~60轉(zhuǎn)/分,連續(xù)可調(diào) ;
      3、靶通過電機(jī)控制換位,靶材屏蔽罩將4塊靶材屏蔽,每次只有一個靶材露出濺射成膜,以避免靶材之間的交叉污染。

      真空腔體

      1、球型真空室尺寸Ф450mm,選用優(yōu)質(zhì)不銹鋼材料制造,氬弧焊接,表面進(jìn)行特殊工藝拋光處理,接口采用金屬墊圈密封或氟橡膠圈密封;

      2、真空腔體帶RF150活開門,方便取、放樣品;

      3、RF100法蘭2套1套紫外石英玻璃窗口用于激光器,另1套盲板紅外石英玻璃窗口用于測溫可選配);

      4、RF100光學(xué)玻璃窗口1(用于觀察)。

      產(chǎn)品規(guī)格

      整機(jī)尺寸:1800mm×1000mm×1600mm

      標(biāo)準(zhǔn)配件

      1

      電源控制系統(tǒng)

      1

      2

      真空獲得機(jī)組

      1

      3

      真空測量

      1

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