詳細(xì)說明
XUV® 系列設(shè)備的真空測量室能夠通過 X 射線熒光分析 (RFA) 檢測原子序數(shù)從Na(11)開始的輕元素。由于空氣會吸收輕元素的熒光X射線,因此在大氣環(huán)境中通常無法使用該方法。因此,該儀器非常適合對要求嚴(yán)苛的鍍層厚度進(jìn)行測量和材料分析。
特性:
● 檢出限低、重復(fù)精度高,以及測量適用性廣,因此特別適用于研究和開發(fā)使用
● 配備真空測量室和高性能硅漂移探測器,能夠?qū)崿F(xiàn)精確測量,尤其是對輕元素的測試
● 通過可編程 X、Y 和 Z 軸進(jìn)行自動測試
● 準(zhǔn)直器和濾波器可切換,因此可適用于各種材料和測試條件
應(yīng)用:
涂層厚度測量
● 原子序數(shù)從Na(11)開始的輕元素鍍層,可測量厚度低至納米級
● 鋁鍍層和硅鍍層
材料分析
● 測定寶石的真?zhèn)闻c原產(chǎn)地
● 常規(guī)材料分析和取證
● 高分辨率痕量分析