簡(jiǎn)介:
單晶硅生長(zhǎng)爐是采用直拉法生產(chǎn)太陽(yáng)能級(jí)單晶的設(shè)備,在單晶硅的生產(chǎn)中,能否拉出符合質(zhì)量要求的單晶,整個(gè)工藝衛(wèi)生所起的作用是至關(guān)重要的,清爐這一環(huán)節(jié)是十分重要。單晶硅生長(zhǎng)爐所需清爐的部位有:所有石墨器件上的浮塵和氧化硅一定要吸除干凈;真空排氣口和管道的氧化物每次清爐時(shí)都應(yīng)清除干凈,以保證排氣暢通。氧化物的沉積目前需要人工細(xì)致的清理,不僅費(fèi)時(shí)費(fèi)力,也會(huì)因局部清理不到位而給生產(chǎn)帶來(lái)隱患,采用非接觸的專用清爐設(shè)備是改進(jìn)這一工藝的有效途徑。可以增強(qiáng)爐體的清潔能力,提高單晶爐的工作效率,使其更安全,更經(jīng)濟(jì)的可靠運(yùn)行。
工作原理:
單晶硅生長(zhǎng)爐專用清爐設(shè)備以壓縮空氣作為動(dòng)力源,產(chǎn)生一定脈沖能量的沖擊波,使積灰、結(jié)垢在爐體內(nèi)或管道內(nèi)的附著狀態(tài)產(chǎn)生分離,并使原有的積灰、結(jié)垢發(fā)生疲勞斷裂和破碎。積灰和結(jié)垢在沖擊波的作用下,從附著面剝離而被一定流速流動(dòng)的氣體帶出,根據(jù)積灰的物理性質(zhì)優(yōu)化控制使積灰得以及時(shí)有效地清除,保持爐體清潔。