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產(chǎn)品描述
Strike 20 旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀可應(yīng)用于工業(yè)和實(shí)驗(yàn)室，所有與蒸汽和液體接觸部件均采用硼硅玻璃或PTFE 材質(zhì)，幾乎可以適用任何物料?？梢园岩讚]發(fā)性成分（低沸點(diǎn)）從剩余的高沸點(diǎn)物料中分離出來。真空度可以達(dá)到8mbar，加熱浴槽溫度150℃，3kw 加熱功率。
加熱浴槽
加熱槽通過一個(gè)液壓系統(tǒng)，在斷電的情況下會(huì)自動(dòng)下降，以避免被分離樣品過熱。
密封系統(tǒng)
Strike 20 的特點(diǎn)就是它的密封系統(tǒng)，采用免維護(hù)材料, 形成一個(gè)的真空密封體系，該密封系統(tǒng)不需要任何維護(hù)。
壓力和溫度
Strike 20 可以在常壓或真空條件下運(yùn)行， 真空度可以達(dá)到8mbar。減少了樣品的處理時(shí)間， 適用于在低蒸發(fā)溫度下提取組分。恒溫槽介質(zhì)可使用水或?qū)嵊?，溫度可達(dá)150℃；它也允許任何溶劑蒸發(fā)。加熱浴槽提供兩3kw 的電加熱器。
通過觸摸屏可對(duì)以下參數(shù)進(jìn)行測(cè)量，顯示和控制
* 加熱浴槽設(shè)置溫度和實(shí)際溫度
* 蒸汽設(shè)定溫度和實(shí)際溫度
* 蒸發(fā)瓶旋轉(zhuǎn)速度設(shè)定值和實(shí)際值
* 真空度設(shè)定值和實(shí)際值 (已標(biāo)標(biāo)配了真空控制器
| 應(yīng)用范圍 * 蒸餾（連續(xù)和間歇） | 應(yīng)用領(lǐng)域 * 制藥 |
Measurement, display and data recording of the following Parameters:
* Set and actual temperature value of the bath
* Set and actual vapour temperature value
* Set and actual rotation speed value of the evaporation flask
* Set and actual vacuum value (vacuum controller included as 支架ard)
技術(shù)指標(biāo)
| 加熱浴槽 | |
| 溫度范圍 ℃ | 室溫~150 |
| 溫度精度 ℃ | ±2 |
| 分辨率 ℃ | 0.1 |
| 溫度設(shè)置 | 可設(shè)置 (1℃ 增減) |
| 溫度控制方式 | PID |
| 溫度波動(dòng)度 ℃ | ±3 |
| 加熱功率 kW | 3 |
| 加熱器功率/ 密度 | ≤3W / cm2 |
| 過溫保護(hù)功能 | √ |
| 溫度傳感器 | PT100 |
| 液位 | 手動(dòng) |
| 蒸發(fā)溫度 | |
| 溫度范圍 ℃ | 室溫 ... 150 |
| 溫度精度 ℃ | ±2 |
| 分辨率 ℃ | 0.1 |
| 溫度傳感器 | PT100 |
| 轉(zhuǎn)速 | |
| 轉(zhuǎn)速范圍 Rpm | 10~150 |
| 轉(zhuǎn)速精度 Rpm | ±2 |
| 實(shí)際轉(zhuǎn)速顯示 | √ |
| 轉(zhuǎn)速分辨率 Rpm | 1 |
| 真空控制 | |
| 真空范圍 mbar | 8~ 常壓 |
| 真空精度 mbar | ±5mbar |
| 真空分辨率 mbar | 1 |
| 實(shí)際真空值顯示 | √ |
| 顯示方式 | 數(shù)字顯示 |
| 真空值設(shè)定 | √ |
| 升降支架 | |
| 開/ 關(guān) | √ |
| 電動(dòng) | √ |
