一、介紹：

      基于自混干涉技術(shù)的激光測(cè)振儀的構(gòu)造要比傳統(tǒng)的多普勒效應(yīng)的激光測(cè)振儀簡(jiǎn)單得多。從半導(dǎo)體二極管出來的激光打到反射或散射表面后，一小部分背反射或背散射的光再次進(jìn)到激光腔體，然后產(chǎn)生干涉信號(hào)，從中可以得到被測(cè)表面法向方向的位移 。

      VSM-1000-MICRO采用兩種激光。測(cè)量振動(dòng)的激光是紅外（波長(zhǎng)1550nm），不可見的。紅外和不可見激光是的眼睛安全的。另外一個(gè)紅色的指示激光是為不可見的紅外激光對(duì)中之用。為了不占滿攝像機(jī)，紅色指示激光的功率減到1mw，光斑大小為10um.激光測(cè)振儀被附在顯微鏡的特殊調(diào)節(jié)架上，邊通濾波鏡主要用以紅外激光和可見激光的反射，然后分別聚焦到測(cè)試目標(biāo)上。濾波鏡能夠傳遞20%從測(cè)試表面上散射回來的光，并且在CMOS攝像機(jī)的傳感器上聚焦。為了能對(duì)中方便，顯微鏡裝在一個(gè)俯仰、傾斜和旋轉(zhuǎn)位移臺(tái)上。顯微鏡激光測(cè)振儀測(cè)量測(cè)試表面的法向分量的振動(dòng)。

二、技術(shù)指標(biāo)：

1.激光類型 ： 

Pout < 1="" mw="" @="" 650 nm="">
Pout < 15="" mw="" @="" 1310 nm="">

2.激光等級(jí)：

· Class 2 @ 650 nm (可見)  
· Class 1M @ 1310 nm (不可見)

激光頭尺寸：50 mm x 70 mm x 105 mm

控制單元尺寸：12.5 cm x 15.5 cm x 29.6 cm

3.彩色攝像機(jī)指標(biāo)：

• 130萬像素(1280 x 1024) 黑白，彩色和近紅外CMOS傳感器

• 像素 ：1280 x 1024 Pixels

• 工作距離： 21.7 mm

• 激光深度： 0.048 mm

• 光斑直徑： 4.0 µm  

• 范圍：300um x 250 um (X50目鏡)

4.激光測(cè)振儀指標(biāo)：

• 量程： 1 mm (p-p)

• 頻率范圍：0-35MHz）  

• 分辨率： 0.2 nm s–1/√Hz

• 精度 ：+-1% (0-35MHZ)

  
  

三、應(yīng)用領(lǐng)域 ：

      本產(chǎn)品適用于硅片、IC、LCD、TFT、PCB、MEMS激光加工、晶片測(cè)試、半導(dǎo)體材料、線束加工蝕刻、液晶電池蓋、導(dǎo)線框架等產(chǎn)品的檢查觀察。

      也適用于幾何形狀的顯微觀測(cè)，并且有三維的計(jì)量功能。因此是精密零件，集成電路，半導(dǎo)體芯片，光伏電池，光學(xué)材料等行業(yè)的儀器。