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      布魯克 D8 達(dá)芬奇 X射線衍射儀

      參考價(jià)面議
      具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
      • 公司名稱四川禾業(yè)科技有限公司
      • 品       牌
      • 型       號(hào)布魯克
      • 所  在  地
      • 廠商性質(zhì)其他
      • 更新時(shí)間2022/11/7 12:14:16
      • 訪問次數(shù)264
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      四川禾業(yè)科技有限公司,為用戶提供實(shí)驗(yàn)室儀器一站式解決方案。聚集了一批具有高水平研究人員和應(yīng)用技術(shù)人才,不斷研制、開發(fā)大批新穎、優(yōu)質(zhì)、完善的儀器儀表產(chǎn)品,擁有完善的管理制度和強(qiáng)大的技術(shù)力量,為客戶提供售前,售中,售后的服務(wù)。公司與各大廠商建立了良好的合作關(guān)系,致力于為客戶提供質(zhì)的儀器和最完善的服務(wù),并提供競(jìng)爭(zhēng)力的價(jià)格。我們視質(zhì)量為生命,視服務(wù)為己任,您的滿意,就是我們的追求。四川禾業(yè)科技有限公司立足于現(xiàn)代科技理論與生產(chǎn)實(shí)踐相結(jié)合的基礎(chǔ)上,注重人才質(zhì)量,講究集約開發(fā),以服務(wù)于生產(chǎn)、奉獻(xiàn)于用戶。公司長(zhǎng)期致力于電化學(xué)、色譜、光譜、環(huán)境檢測(cè)等精密分析儀器及實(shí)驗(yàn)室常用設(shè)備的研制、生產(chǎn)和銷售。
      輻射測(cè)量?jī)x
      產(chǎn)品簡(jiǎn)介 布魯克AXS公司全新的D8 ADVANCE X射線衍射儀,采用創(chuàng)造性的達(dá)芬奇設(shè)計(jì),通過TWIN-TWIN光路設(shè)計(jì),成功實(shí)現(xiàn)了BB聚焦幾何下的定性定量分析和平行光幾何下的薄膜掠入射GID分析、薄膜反射率XRR分析的全自動(dòng)切換
      布魯克 D8 達(dá)芬奇 X射線衍射儀 產(chǎn)品信息

      布魯克 D8 達(dá)芬奇 X射線衍射儀 核心參數(shù)


      • 角度偏差
        0.0001
      • 重復(fù)性
        0.0001
      • 最小步進(jìn)角度
        0.0001
      • 發(fā)生器功率
        3kW
      • 儀器種類
        多晶衍射儀

      布魯克AXS公司全新的D8 ADVANCE X射線衍射儀,采用創(chuàng)造性的達(dá)芬奇設(shè)計(jì),通過TWIN-TWIN光路設(shè)計(jì),成功實(shí)現(xiàn)了BB聚焦幾何下的定性定量分析和平行光幾何下的薄膜掠入射GID分析、薄膜反射率XRR分析的全自動(dòng)切換,而無需對(duì)光。通過革命性的TWIST TUBE技術(shù),使用戶可以在1分鐘內(nèi)完成從線光源應(yīng)用(常規(guī)粉末的定性定量分析、薄膜的GID、XRR)到點(diǎn)光源應(yīng)用(織構(gòu)、應(yīng)力、微區(qū))的切換,讓煩人的光路互換、重新對(duì)光等問題從此成為歷史!

      高精度的測(cè)角儀可以保證在全譜范圍內(nèi)的每一個(gè)衍射峰(注意不是一個(gè)衍射峰)的測(cè)量峰位和標(biāo)準(zhǔn)峰位的誤差不超過0.01度,布魯克AXS公司提供保證!

      *的林克斯陣列探測(cè)器可以提高強(qiáng)度150倍,不僅答復(fù)提高設(shè)備的使用效率, 而且大幅提高了設(shè)備的探測(cè)靈敏度。



      技術(shù)指標(biāo)

      Theta/theta 立式測(cè)角儀

      2Theta角度范圍-110~168°

      角度精度0.0001

      Cr/Co/Cu,標(biāo)準(zhǔn)尺寸光管

      探測(cè)器:林克斯陣列探測(cè)器、林克斯XE陣列探測(cè)器

      儀器尺寸:1868x1300x1135mm

      重量:770kg


      應(yīng)用

      物相定性分析

      結(jié)晶度及非晶相含量分析

      結(jié)構(gòu)精修及解析

      物相定量分析

      點(diǎn)陣參數(shù)精確測(cè)量

      無標(biāo)樣定量分析

      微觀應(yīng)變分析

      晶粒尺寸分析

      原位分析

      殘余應(yīng)力

      低角度介孔材料測(cè)量

      織構(gòu)及ODF分析

      薄膜掠入射

      薄膜反射率測(cè)量

      小角散射


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