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GVC-2000T高真空磁控離子濺射儀

參考價(jià)	面議

參考價(jià)

面議

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

公司名稱(chēng)北京格微儀器有限公司
品牌
型號(hào)
所在地
廠商性質(zhì)其他
更新時(shí)間2022/10/14 13:12:24
訪問(wèn)次數(shù)241

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公司介紹主營(yíng)產(chǎn)品

北京格微儀器有限公司長(zhǎng)期致力于打造以用戶(hù)體驗(yàn)為中心的材料表征領(lǐng)域、材料表面改性等儀器設(shè)備研發(fā)制造，公司總部位于北京海淀中關(guān)村，有多名多年從事真空技術(shù)、電子光學(xué)、離子光學(xué)、表面物理、材料制備等技術(shù)人員聯(lián)合發(fā)起，團(tuán)隊(duì)全部為碩士以上學(xué)歷或高級(jí)職稱(chēng)，具備專(zhuān)業(yè)的表面分析、結(jié)構(gòu)分析、原位分析等應(yīng)用經(jīng)驗(yàn)，在科研、產(chǎn)業(yè)等領(lǐng)域，沉浸多年，具備獨(dú)立設(shè)計(jì)、項(xiàng)目承擔(dān)、生產(chǎn)制造等綜合能力。當(dāng)前聚焦于具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)并具備國(guó)際競(jìng)爭(zhēng)力的電子顯微鏡樣品制備設(shè)備，并在高校院所和產(chǎn)業(yè)單位得到青睞。

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描述全自動(dòng)知識(shí)產(chǎn)品沒(méi)有熱損傷

GVC-2000T高真空磁控離子濺射儀產(chǎn)品信息

描述

全自動(dòng)知識(shí)產(chǎn)品

沒(méi)有熱損傷，效率更高，顆粒度更細(xì)，更適合高分辨電鏡

應(yīng)用領(lǐng)域

高分辨掃描電鏡樣品制備（實(shí)際放大倍數(shù)≥100K）
電極制備-可制備各種金屬電極、ITO電極

設(shè)備配置與技術(shù)參數(shù)

名稱(chēng)&型號(hào)	高真空磁控離子濺射儀GVC-2000T
真空系統(tǒng)	渦輪分子泵（進(jìn)口）：德國(guó)萊寶90i （單磁懸浮分子泵，抽速為90L/s）旋片式真空泵：浙江飛越VRD-4 （抽速為 1 .1L/s）
真空測(cè)量	全量程復(fù)合真空規(guī)（進(jìn)口）：1.0E5Pa-1E-4Pa
系統(tǒng)極限真空	≤5E-3Pa
濺射電源	磁控濺射電源,功率150W
可用靶材	所有金屬靶材，ITO靶材
濺射電壓	300-600V,根據(jù)選擇靶材、控制參數(shù)不同而變化
濺射電流	0-200mA連續(xù)可調(diào),步長(zhǎng)5mA
濺射時(shí)間	0-9999s, 連續(xù)可調(diào)步長(zhǎng)1s
操作界面	7英寸TFT彩色液晶觸摸屏,分辨率800×480
操作方式	一鍵操作
抽氣節(jié)拍	＜15分鐘
控制方式	只需設(shè)定濺射電流和時(shí)間即可，全自動(dòng)控制具備預(yù)濺射擋板（預(yù)濺射時(shí)間可設(shè)定),全自動(dòng)控制
保護(hù)功能	軟硬件互鎖、防止誤操作，具備電流、真空保護(hù)等
樣品臺(tái)直徑	φ125mm，可自轉(zhuǎn)，可自動(dòng)手動(dòng)控制，轉(zhuǎn)速4-40rpm可調(diào)
真空室	高硅硼玻璃，規(guī)格尺寸約φ200×130mm
電源供電	220V 50Hz 功率800W
尺寸&重量	重量 424（長(zhǎng)) ×345（深) ×420mm（高）、 25 kg （凈重)
冷卻方式	內(nèi)部風(fēng)冷
選配	樣品臺(tái)選擇、膜厚控制、溫度監(jiān)測(cè)等