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      12英寸大面積專用離子減薄儀(MU700)

      參考價面議
      具體成交價以合同協(xié)議為準
      • 公司名稱上海續(xù)波光電技術(shù)有限公司
      • 品       牌
      • 型       號
      • 所  在  地上海
      • 廠商性質(zhì)其他
      • 更新時間2022/10/12 16:41:25
      • 訪問次數(shù)198
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      上海續(xù)波光電技術(shù)有限公司是一家專業(yè)從事高性能薄膜沉積及處理設(shè)備、光電材料及軟件、金剛石合成及應(yīng)用、激光等離子體仿真和診斷等產(chǎn)品及服務(wù)進口的技術(shù)貿(mào)易服務(wù)型公司。公司至今已與法國、德國、英國、瑞士、意大利、美國、加拿大、日本、俄羅斯等國家的多家企業(yè)建立了戰(zhàn)略合作關(guān)系,并服務(wù)于國內(nèi)從事微電子、半導(dǎo)體、光學(xué)、納米技術(shù)等領(lǐng)域的研究所和大學(xué)。公司從事領(lǐng)域及產(chǎn)品主要包括:加速器質(zhì)譜儀:第三代14C加速器質(zhì)譜儀系統(tǒng)(AMS),包括全套可兼容第三代石墨化系統(tǒng)AGE3、氣動壓樣裝置PSP、鐵制分配器FED、管密封裝置TSE、氣體電離探測器GID、氣體接口系統(tǒng)GIS、碳酸鹽處理系統(tǒng)CHS、同位素比質(zhì)譜儀IRMS。薄膜制備及處理:磁控濺射儀(magnetron sputtering system)、電子束蒸鍍設(shè)備(E-beam Evaporation system)、離子束濺射沉積(IBS system)、化學(xué)束外延鍍膜(CBE/GSMBE)、分子束外延設(shè)備(MBE)、離子減薄儀(Ion Milling)、超高真空多功能鍍膜設(shè)備、高精密光學(xué)鍍膜設(shè)備(Optical Coating system)、刻蝕機(RIE, RIEB)、超導(dǎo)約瑟夫森結(jié)制備(Josephson Junction, Qubits);金剛石制備及應(yīng)用:納米晶金剛石制備設(shè)備、熱絲化學(xué)氣相沉積(HFCVD)、CVD單晶金剛石合成設(shè)備、CVD光學(xué)級金剛石窗口合成、微波等離子化學(xué)氣相沉積(MPCVD)、工具級金剛石涂層制備(tool coating)、金剛石單晶/多晶摻雜(single crystal diamond and doping)、CVD金剛石單晶及其應(yīng)用、高溫高壓金剛石單晶(HPHT diamond)、金剛石拋光設(shè)備(diamond polishing)、激光切割設(shè)備(laser cutting)、鉆石凈度及切工評定儀器;高能密度物理:輻射流體力學(xué)模擬、原子光譜分析軟件、多維碰撞輻射軟件、三維熱輻射CAD軟件、狀態(tài)方程和不透明度、原子物理數(shù)據(jù)庫;微波干涉儀、金剛石靶丸、超高功率輸出窗口;激光器與設(shè)計:固體激光器設(shè)計軟件(Solid-state Laser)、光纖激光器設(shè)計軟件(Fiber laser)、半導(dǎo)體激光器設(shè)計軟件(Semiconductor laser)、激光鏡面鍍膜設(shè)備(Lasers coating system)、高功率激光輸出窗口(High power output window)、高功率激光熱沉片(Heat Sink)、高功率鉆石激光器(Diamond Laser)、金剛石窗口鍍增透膜(AR coating service);
      關(guān)鍵詞:RIE、RIBE、反應(yīng)離子束刻蝕、CAIEB、化學(xué)輔助離子束刻蝕、過渡金屬、磁性材料、MRAM、GMR、TMR、Pt、Cu、TeGe、PZT型號:MU700S;產(chǎn)地:歐洲
      12英寸大面積專用離子減薄儀(MU700) 產(chǎn)品信息

      關(guān)鍵詞:RIE、RIBE、反應(yīng)離子束刻蝕、CAIEB、化學(xué)輔助離子束刻蝕、

                      過渡金屬、磁性材料、MRAM、GMR、TMR、Pt、Cu、TeGe、PZT

       

      型號:MU700S;    產(chǎn)地:歐洲;  

      應(yīng)用:過渡金屬, PZT, 磁性材料(MRAM, GMR, TMR), Pt, Cu, TeGe ;

       

      代表性用戶:法國科學(xué)研究中心(CNRS)、意法半導(dǎo)體(ST)

       

      RFICP源:束徑可達 220 mm

       

      采用分子泵或低溫泵+干泵組合真空系統(tǒng)

       

      均勻性:+/- 5%  on 290 mm襯底

       

      水冷樣品臺,襯底尺寸可達直徑300mm

       

      樣品臺可以傾斜和旋轉(zhuǎn)

       

      配套SIMS用于刻蝕監(jiān)控

       

      配置Load Lock

       

      控制系統(tǒng):全自動控制,半自動和手動模式可用
                    支持多級用戶權(quán)限設(shè)置和管理
                    支持設(shè)備遠程操作、監(jiān)控、診斷和維護
                    系統(tǒng)自動報警及定位故障

       

      關(guān)鍵詞:控制系統(tǒng)
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