SEMPrep2離子減薄儀

新一代的離子研磨系統(tǒng)能夠程度上滿足用戶的要求。為掃描電鏡和EBSD用戶提供了用于斜坡切割和無(wú)損傷表面拋光的多功能設(shè)備。

▼通過(guò)計(jì)算機(jī)來(lái)進(jìn)行使用及自動(dòng)化額操作

▼現(xiàn)如今的能量的離子槍

▼的預(yù)傾斜試樣可以實(shí)現(xiàn)三種角度進(jìn)行操作(30°,45°,90°)

▼具有快速樣品倉(cāng),可以將樣品快速轉(zhuǎn)移

▼可選裝液氮或半導(dǎo)體制冷方式

方便簡(jiǎn)單的操作過(guò)程

linda離子減薄儀高級(jí)用戶界面提供了從初學(xué)者到專家用戶的操作模式。*自動(dòng)化的、基于配方的操作提供了幾乎不受干預(yù)的樣品制備。用戶可以不受限制地創(chuàng)建、編輯、保存和加載大量的菜譜。自動(dòng)化軟件可以根據(jù)客戶的應(yīng)用和需求包括預(yù)先設(shè)定的配方。能量的離子槍，我們具有兩個(gè)獨(dú)立的離子槍,分別安裝在樣品倉(cāng)的兩側(cè),我們兩個(gè)單獨(dú)的離子源可以提供現(xiàn)如今廣泛的能量范圍.在超高能量范圍（10 keV以上），可以達(dá)到的濺射率。經(jīng)過(guò)快速銑削后，的低能離子源的清潔能力提供了光滑、無(wú)損傷的試樣表面。

樣品冷卻方式

為了滿足所有可能的需求，SEMPrep2提供了兩種不同的冷卻方案：摘要針對(duì)熱敏性或低溫樣品，提出了液態(tài)氮冷卻的建議。有了這個(gè)選擇，樣品溫度就可以大大降低，并在零下的范圍內(nèi)控制。Peltier冷卻是一種防止過(guò)熱的舒適保護(hù)，它有助于保持樣品在室溫下。

快速樣品交換倉(cāng)

linda離子減薄儀負(fù)載鎖定和機(jī)動(dòng)取樣器驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)提供了快速簡(jiǎn)單的樣本交換，并提供了最少的用戶交互。負(fù)載鎖保護(hù)工作腔內(nèi)的真空水平，為重度用戶節(jié)省大量的時(shí)間和精力。

的樣品臺(tái)設(shè)計(jì)

為了提供配置，SEMPrep2提供了廣泛的樣本持有者品種。

對(duì)于傾斜的30、45和90個(gè)傾斜的樣品持有者來(lái)說(shuō)是可行的。

為高級(jí)用戶和特殊應(yīng)用程序建議使用具有2 m精度的電動(dòng)試樣。

新一代的表面拋光樣品持有者（如ex.EBSD）提供了令人印象深刻的研磨面積，即使對(duì)于工業(yè)用戶也可以接受大樣本。