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      XQ15-GⅠ激光平面干涉儀

      參考價(jià)面議
      具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
      • 公司名稱上海星慶光學(xué)儀器有限公司
      • 品       牌
      • 型       號(hào)
      • 所  在  地上海市
      • 廠商性質(zhì)經(jīng)銷商
      • 更新時(shí)間2022/9/5 13:44:49
      • 訪問(wèn)次數(shù)437
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      上海星慶光學(xué)儀器有限公司創(chuàng)辦于1992年,是一個(gè)集生產(chǎn)制造多品種高精度的光學(xué)零部件,多系列、高精密度的光學(xué)儀器產(chǎn)品和銷售的高科技光機(jī)電儀器一體化的專業(yè)制造企業(yè)。經(jīng)多年的磨礪和不斷發(fā)展壯大,企業(yè)現(xiàn)已成為廠房面積達(dá)1800多平方米;擁有員工80余名,其中工程技術(shù)人員30名;配有各種加工、測(cè)試設(shè)備50余臺(tái)(套);眾多用戶熟知的具有*產(chǎn)品研發(fā)和制造能力。公司為更好地進(jìn)行市場(chǎng)運(yùn)作而成立的上海嘉星光學(xué)科技有限公司(銷售公司),使公司更具有運(yùn)營(yíng)、市場(chǎng)推廣及業(yè)務(wù)拓展的能力。

      光學(xué)顯微鏡
      用途:  可廣泛用于工廠的計(jì)量室、光學(xué)車間和科研院所的實(shí)驗(yàn)室
      XQ15-GⅠ激光平面干涉儀 產(chǎn)品信息

      XQ15-GⅠ激光平面干涉儀

      用途:
        可廣泛用于工廠的計(jì)量室、光學(xué)車間和科研院所的實(shí)驗(yàn)室。光學(xué)平面的平面度測(cè)量、光學(xué)平板的微小楔角測(cè)量、光學(xué)材料均勻性測(cè)量、光學(xué)薄板波前誤差的測(cè)量。

      特點(diǎn):
        防震性能好、有的條紋鎖定度、視場(chǎng)清晰、生產(chǎn)場(chǎng)所可用性優(yōu)于市場(chǎng)同類產(chǎn)品,大容量的工作室為大批量生產(chǎn)企業(yè)的大鏡面檢測(cè)提供了方便。

      技術(shù)參數(shù):
      1. 標(biāo)準(zhǔn)平面(A面),工作直徑D1=Φ146mm,平面的面形偏差小于0.03μm(λ/20)

      2. 第二標(biāo)準(zhǔn)平面(B面),工作直徑D2=Φ140mm,平面的面形偏差小于0.03μm(λ/20)

      3. 準(zhǔn)直系統(tǒng)-----------------工作直徑Φ146mm,焦距 f = 400mm

      4. 光源規(guī)格-----------------激光ZN18(He-Ne)

      5. 干涉室尺寸----------------Φ480×380×285mm


      選配件一:
        精密升降工作臺(tái)(適用GⅠ、GⅡ型)

      用途:
      主要用于平晶、平行平晶等非鍍膜面高精度平面度的測(cè)量與檢定以及儀器采用鈉光或汞光照明時(shí)的測(cè)量。

      XQ15-GⅠ激光平面干涉儀

      選配件二:
        透檢工作臺(tái)(適用GⅠ型)

      用途:
      主要用于超薄平行平板的波前誤差測(cè)量、光學(xué)平板微小楔角相對(duì)干涉測(cè)量以及光學(xué)材料折射率均勻性的偏差判斷。

      XQ15-GⅠ激光平面干涉儀

      選配件三:
        高反射面測(cè)量工作臺(tái)(適用GⅠ、GⅡ、GⅢ型)

      用途:
      主要用于鍍反射膜及高折射率材料(如硅、鍺等材料)表面精度的測(cè)量與檢定。

      XQ15-GⅠ激光平面干涉儀

      選配件四:
        顯示監(jiān)控系統(tǒng)(適用GⅠ型)

      用途:
      顯示監(jiān)控系統(tǒng)的應(yīng)用,可減輕操作者的勞動(dòng)強(qiáng)度,并可實(shí)施多人判讀與分析,以達(dá)到教學(xué)與監(jiān)控的目的。

      XQ15-GⅠ激光平面干涉儀

      選配件五:
        計(jì)算機(jī)影像系統(tǒng)(適用GⅠ、GⅡ、GⅢ型)

      用途:
      影像系統(tǒng)的應(yīng)用,可將被檢測(cè)鏡面的原始資料通過(guò)計(jì)算機(jī)保存和傳輸,以達(dá)到資料存檔及遠(yuǎn)程監(jiān)控、驗(yàn)收評(píng)定質(zhì)量的目的。

      XQ15-GⅠ激光平面干涉儀

      選配件六:
        倍率成像測(cè)微系統(tǒng)(適用GⅠ、GⅡ、GⅢ型)

      用途:
        
      主要用于目視精確量值的索得及小型被測(cè)件干涉條紋按要求放大測(cè)量與判讀。

      技術(shù)參數(shù):
        測(cè)微目鏡放大率15X
        倍率成像測(cè)微目鏡適用范圍見下表:

      規(guī)格 size

      焦距 
      focal length(mm)

      放大倍率(β) 
      magnification

      適用被測(cè)口徑 
      Working aperture

      F15

      151

      0.56

      Ф90~Ф150

      F23

      23

      0.86

      Ф50~Ф105

      F37

      37

      1.39

      Ф60以下


      關(guān)鍵詞:監(jiān)控系統(tǒng)
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