電子級硫酸又稱高純硫酸、超純硫酸，屬于超凈高純試劑，是一種微電子技術(shù)發(fā)展過程中的關鍵基礎化學試劑，主要用于硅晶片的清洗和蝕刻，可有效除去晶片上的雜質(zhì)顆粒、無機殘留物和碳沉積物。電子級硫酸的純度和潔凈度對電子元件的成品率、電性能及可靠性有著重要的影響。

從純度上來講，電子級和分析純的化學品，相對于普通化學品，其純度都很高，雜質(zhì)含量少，但是兩個屬于不同的標準體系，對雜質(zhì)的關注點不一樣。 電子級是對用于電子元器件生產(chǎn)過程中使用的化學品的一種泛指，相對于一般工業(yè)，其純度要求更高，尤其是平板顯示行業(yè)或者半導體行業(yè)。其更每種化學品更中的有害雜質(zhì)含量，金屬離子，固體顆粒等等。用于半導體工業(yè)的電子級化學品純度一般比分析純的化學試劑更高，可參考SEMI相關化學品的標準。對于芯片生產(chǎn)過程來說，一般情況下，純度會在99.999%數(shù)量級，12寸芯片生產(chǎn)可能會用到99.999999999%純度的化學品。 分析純是化學試劑的一個純度標準，這個系列里包括 優(yōu)級純，分析純，化學純和實驗純。其中分析純干擾雜質(zhì)很少，適用于工業(yè)分析及化學實驗，比如用于滴定之類的分析。

在復雜的芯片生產(chǎn)工藝中，硫酸也是*的試劑。

硅圓片在加工過程中，常常會被不同的雜質(zhì)所沾污，硅圓片上不溶性固體顆?；蚪饘匐x子可能在微細電路之間導電，使之短路。鈉、鈣等堿金屬雜質(zhì)也會融進氧化膜中，導致耐絕緣電壓下降。硼、磷、砷等雜質(zhì)離子會影響擴散劑的擴散效果，塵埃顆粒會造成光刻缺陷，氧化層不平整，影響制版質(zhì)量和等離子蝕刻工藝。

為了獲得高質(zhì)量集成電路芯片，必須除去各種沾污物，這就需要使用非常純凈的化學試劑來清洗硅圓片。硫酸和過氧化氫可以按比例組成有強氧化性的SPM清洗液，將有機物氧化成CO2和H2O。它還可用于光刻過程中的濕法蝕刻去膠，借助于化學反應從硅圓片的表面除去固體物質(zhì)，導致固體表面全部或局部溶解。

硫酸在此處的作用是消除晶圓上的各種雜質(zhì)，那么其本身就肯定不能做為污染源再引入雜質(zhì)，因此該工藝對于硫酸本身純凈度的要求也相當高。1975年，美國的半導體設備與材料協(xié)會（Semiconductor Equipment and Materials International，SEMI）首先為微電子工業(yè)配套的電子級化學品制定了統(tǒng)一標準（SEMI標準）；1978年，德國的默克公司也制定了MOS標準。兩種標準對電子級化學品中金屬雜質(zhì)和微粒（塵埃）的要求各有側(cè)重，分別適用于不同級別IC的制作要求。

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