應用領域

1.納米材料：ALD 技術沉積參數(shù)高度可控，可在各種尺寸的復雜三維微納結(jié)構基底上，實現(xiàn)原子級精度的薄膜形成和生長，可制備出高均勻性、高精度、高保形的納米級薄膜。ALD具有高致密性以及高縱寬比結(jié)構均勻性，為MEMS機械耐磨損層、抗腐蝕層、介電層、憎水涂層、生物相容性涂層、刻蝕掩膜層等提供優(yōu)質(zhì)解決方案。ALD技術沉積參數(shù)高度可控，可通過精準控制循環(huán)數(shù)來控制MTJ所需達到的各項參數(shù)，是適用于MTJ制造的工藝方案之一。ALD技術可通過表面修飾，改善納米孔的生物相容性，同時提升抗菌抑菌和促進細胞合成。

2.太陽能電池：ALD基材料在c-Si太陽能電池中的應用始于Al2O3，Al2O3是一種非常有效的表面鈍化層，被發(fā)現(xiàn)可以顯著提高c-Si太陽能電池的效率并應用于大規(guī)模產(chǎn)業(yè)化中。此后的研究中，ALD的應用研究從表面鈍化層擴展到載流子傳輸材料[8]。

3.催化：ALD技術很容易地控制納米顆粒的大小、孔隙結(jié)構、含量和分散，有效設計出核殼結(jié)構、氧化物/金屬倒載結(jié)構、氧化物限域結(jié)構、具有多金屬管套結(jié)構和多層結(jié)構，且自限制特性可實現(xiàn)催化材料在高比表面材料上的均勻和可控沉積，實現(xiàn)一步步和“自底向上"的方式在原子層面上構建復雜結(jié)構的異質(zhì)催化劑材料而得到廣泛研究。利用ALD技術具有飽和自限制的表面反應特性，有效抑制金屬有機化合物、配體的空間位置效應，天然的將金屬中心原子互相隔離開，抑制金屬原子聚集，合成單原子催化劑。利用ALD技術有效調(diào)控金屬與載體間的相互作用的特性，可獲得單金屬催化劑，如Ru、Pt、Pd等貴金屬。利用ALD技術能調(diào)控兩種金屬元素生長順序、循環(huán)周期數(shù)的特性來精準得到雙金屬納米催化劑，合成原子級精準的超細金屬團簇，如PtPd、PtRu、PdRu等雙金屬納米顆粒。利用ALD技術制備金屬氧化物，不僅可以制備性能更加優(yōu)良的多相催化劑，而且可以對負載型催化劑進行改性，達到修飾、保護催化劑的目的。

4.鋰電池：ALD在鋰離子電池中的應用特點：（1）電極材料的制備和改性；（2）陰極材料上的保護鍍膜；（3）陽極材料上的人造固體電解質(zhì)相間（SEI）；（4）鋰金屬陽極鈍化和防止枝晶生長；（5）ALD作用的固態(tài)電解質(zhì)（SSE）；（6）隔離膜上的保護涂層

原速科技ALD技術在鋰電池領域的應用主要有以下幾個方面：

a、鋰電池PP/PE隔膜包覆，改善隔膜的浸潤性，耐壓性，熱收縮性能

b、鋰電池正極包覆，改善電池的倍率性能，循環(huán)性能等

c、鋰電池負極包覆，改善電池的倍率性能，循環(huán)性能以及安全性能

5.光學鍍膜：ALD薄膜以飽和吸附的layer-by-layer生長模式，可在結(jié)構復雜的幾何表面，如大曲面及高縱深比深孔結(jié)構，大面積形成高均勻性薄膜，且膜層相較于PVD膜更為致密，在界面處的結(jié)合力更強，更適用于未來工業(yè)界*精密光學器件的制造。

6.生物醫(yī)療：ALD可以通過低溫沉積形成非常致密的保護膜，由于是納米級別的膜厚其本身對醫(yī)療設備也不會造成影響，沉積ALD涂層后可以大幅度增加植入設備的壽命以及安全性，也有可能有效的減少更換手術的頻率；同時ALD有多種材料都具有生物相容性，這種涂層對人體組織是沒有任何細胞毒性的，這使得在再生醫(yī)學領域中，用于對細胞構建生物相容性底物的制備時，ALD沉積表面涂層能滿足對新型生物相容性材料的需求；在藥物方面，ALD涂層可以有效的保護顆粒不受周圍空氣和水分的影響，從而大幅度的延長藥物的保質(zhì)期。

7.OLED：幾十納米厚度的ALD封裝膜甚至可媲美傳統(tǒng)OLED封裝技術的阻隔效果，同時具有良好的透光率、熱導率、機械強度、耐腐蝕性及與基底的粘結(jié)性等性質(zhì)；ALD封裝薄膜因其納米級的膜厚，可以實現(xiàn)很大程度上的彎曲并保持封裝效果不變，這一特性可兼容柔性OLED器件封裝，真正做到顯示屏的可折疊、卷曲；ALD薄膜優(yōu)異的保型性使其在一些復雜形貌和三維納米結(jié)構的LED表面實現(xiàn)出色的鈍化保護層，有效地起到阻隔水氧的作用，提高性能；用ALD在LED表面沉積鈍化膜還可以很好地修補被等離子刻蝕造成的破壞性表面，可有效降低漏電流，顯著提高LED效率。