
種:直接脫氧法。就是使用活性金屬、催化劑與氬氣中的氧氣進(jìn)行反應(yīng),消化掉氬氣中的氧氣,從而達(dá)到脫氧的目的,經(jīng)過分子篩吸收掉氬氣中的水份,使氬氣的含水量小于1ppm。
第二種:是采用吸氣劑。在一定溫度下,吸氣劑可吸收氮、氫、氧、一氧化碳、二氧化碳、甲烷等氣體經(jīng)吸收處理后,氬氣的純度可達(dá)到6個(gè)九,這種工藝生產(chǎn)出來的高純氣體適用于各類儀器儀表適用要求。
1. 處理氣量:5~1500 Nm3/h(可根據(jù)用戶需要訂做非標(biāo)設(shè)備)
2. 原料氣要求:?液氬或者較好的管道氬均可使用
3. 工作壓力0.2-1.6MPa可調(diào)
4. (氬氣凈化器)凈化效能:純化后符合并高于GB/T4842-2006的99.9996%要求
1. 凈化劑則采用了國內(nèi)較好的凈化材料。其特點(diǎn)有吸附深度好,吸收雜質(zhì)氣體量大的特點(diǎn),純度可達(dá)99.9999%以上;
2. 凈化器采用特殊結(jié)構(gòu)和裝料方法,流速設(shè)計(jì)合理,氣流分布均勻;
3. 全B內(nèi)外精拉管管路。采用進(jìn)口卡套式球閥。杜絕了氣體流經(jīng)管路的再次污染,一次安裝終身使用,真正做到零泄漏及*運(yùn)行。
4. 雙式結(jié)構(gòu),開機(jī)后一組工作,另一組再生、備用,而且RZ-YA-C系列半自動純化裝置工作和再生都自動進(jìn)行,故能夠連續(xù)供氣,一臺能頂單式的兩臺使用。
該系列氬氣純化裝置用于高純氣體充裝站、焊接、不銹鋼制造、冶煉,還用于半導(dǎo)體制造工藝中的化學(xué)氣相淀積、晶體生長、熱氧化、外延、擴(kuò)散、多晶硅、鎢化、離子注入、載流、燒結(jié)等氬氣作為制作單晶及多晶硅的保護(hù)氣。
