高周波加熱型TDSの特徴
高周波加熱型升溫脫離分析裝置IH-TDS1700は、超高真空中で試料を電磁誘導(dǎo)加熱することにより、試料から脫離する分子を四重極質(zhì)量分析計(jì)(QMS)でリアルタイム観測(cè)する分析裝置です。超高真空であるためバックグラウンドが低く高感度な測(cè)定が可能です。大気や発生ガスなどによる副反応の影響も大幅に抑えられているため理想的な狀態(tài)で試料からの脫離分子を観測(cè)することができます。
加熱效率の良い金屬サンプルの場(chǎng)合、1700℃以上の加熱が可能です。また、鋼鉄材料の水素脆化因子となる鋼中拡散性水素の低溫TDS測(cè)定も可能です。
裝置本體の制御はPLC(Programmable Logic Controller)により自動(dòng)で行われ、インターフェースにタッチパネルを采用しております。