世界可見(jiàn)光及電子光學(xué)的企業(yè)——德國(guó)蔡司公司始創(chuàng)于1846年。其 電子光學(xué)前身為L(zhǎng)EO(里奧),更早叫Cambridge(劍橋)和Zeiss。積掃描電鏡領(lǐng)域40多年及透射電鏡領(lǐng)域60年的經(jīng)驗(yàn),電子光學(xué)成像技術(shù)在世界上創(chuàng)造了數(shù)個(gè)里程碑:
-與AEG公司合作實(shí)現(xiàn)了透射電子顯微鏡的商業(yè)化(1949)-陸續(xù)推出的EM9型電子顯微鏡是世界上*具有自動(dòng)曝光控制的電磁式
-透射電子顯微鏡TEM(1956)
-推出EM902型配用Castaing-Henry過(guò)濾器商用電子顯微鏡,用戶(hù)利用
-該種新產(chǎn)品能夠得到高分辨率元素分布圖片(1984)
-配用靜電電磁物鏡(Gemini技術(shù))的場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡DSM982
-Gemini投放市場(chǎng)(1993)
-推出具有Koehler照明的200KV場(chǎng)發(fā)射透射電鏡(2003)
-推出具有鏡筒內(nèi)校正Omega能量濾波器的場(chǎng)發(fā)射透射電鏡(2003)
CARL ZEISS其前瞻性和完善的設(shè)計(jì),融合歐洲*的制造工藝, 造就了該品牌在光電子領(lǐng)域的地位。自成立至今,一直延續(xù)不 斷創(chuàng)新的傳統(tǒng),公司擁有廣泛的專(zhuān)有技術(shù),隨著離子束技術(shù)和基于電子束的 分析技術(shù)的加入,可為您提供鎢燈絲掃描電鏡、場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡、雙束顯微鏡(FIB and SEM)、透射電子顯微鏡等全系列解決方案。其產(chǎn)品的高性能、 高質(zhì)量、高可靠性和穩(wěn)定性已得到世界范圍內(nèi)廣大用戶(hù)的信賴(lài)與認(rèn)可。
作為一家電子光學(xué)產(chǎn)品提供商,我們將為您提供完善的納米技術(shù)解決方案,并且以專(zhuān)業(yè)化的手段讓您的投資物有所值。無(wú)論您是企業(yè)還是科研機(jī)構(gòu),卡爾 蔡司在高質(zhì)量電子光學(xué)系統(tǒng)方面優(yōu)良的傳統(tǒng)都會(huì)為您的業(yè)績(jī)做出積極的貢獻(xiàn)。
【總體描述】
蔡司鎢燈絲掃描電鏡EVO MA 15的問(wèn)世,將鎢燈絲掃描電鏡的發(fā)展帶入了全新的時(shí)代,超大樣品室為各類(lèi)繁雜的樣品以及繁重的工作提供了輕松的解決方案,自動(dòng)化的5軸樣品臺(tái)和大的X、Y、Z軸跟蹤掃描以及可變壓力的檢測(cè)模式使得EVO MA 15能夠廣泛適用于各類(lèi)樣品的檢測(cè)工作,EVO MA 15作為一款研究級(jí)掃描電鏡能夠?yàn)槟峁┩昝赖囊曈X(jué)圖像和泛的應(yīng)用領(lǐng)域。
【技術(shù)參數(shù)】
分辨率:3.0nm@ 30KV(SE and W) 4.0nm@ 30KV(VP with BSD)
加速電壓:0.2—30KV
放大倍數(shù):5—1000000x
探針電流:0.5PA-5μA
X-射線(xiàn)分析工作距離:8.5mm 35度接收角
壓力范圍:10—400Pa (LS15:環(huán)掃模式10-3000Pa)
工作室:365mm(φ)×275mm(h)
5軸優(yōu)中心自動(dòng)樣品臺(tái):X=125mm Y=125mm Z=50mm T=-10°- 90°R=360°
較大試樣高度:145mm,大試樣直徑:250mm
系統(tǒng)控制:基于Windows 7 的SmartSEM操作系統(tǒng)
存儲(chǔ)分辨率為32,000 x 24,000 pixels
【主要特點(diǎn)】
能在可變壓力下操作
*X射線(xiàn)和EBSD分析
可移動(dòng)大平臺(tái)
快抽真空
未來(lái)的保證,可升級(jí)在高壓和水蒸氣下成像和分析
高亮度LaB6資源選擇
光線(xiàn)套選擇
【產(chǎn)品應(yīng)用】
掃描電鏡(SEM)廣泛地應(yīng)用于金屬材料(鋼鐵、冶金、有色、機(jī)械加工)和非金屬材料(化學(xué)、化工、石油、地質(zhì)礦物學(xué)、橡膠、紡織、水泥、玻璃纖維)等檢驗(yàn)和研究。在材料科學(xué)研究、金屬材料、陶瓷材料、半導(dǎo)體材料、化學(xué)材料等領(lǐng)域進(jìn)行材料的微觀(guān)形貌、組織、成分分析,各種材料的形貌組織觀(guān)察,材料斷口分析和失效分析,材料實(shí)時(shí)微區(qū)成分分析,元素定量、定性成分分析,快速的多元素面掃描和線(xiàn)掃描分布測(cè)量,晶體、晶粒的相鑒定,晶粒尺寸、形狀分析,晶體、晶粒取向測(cè)量。